[发明专利]制作工艺反应系统

权利要求书

1.一种制作工艺反应系统，其用来在一基板上进行一反应制作工艺，该制作工艺反应系统包含有：

制作工艺反应室，其具有闸口；以及

喷气装置，其设置于对应该闸口的位置上且位于该基板的上方，该喷气装置用于产生一清洁气流，该清洁气流具有一流动路径，且该流动路径与该基板间具有一夹角，该夹角实质上介于15度至25度。

2.如权利要求1所述的制作工艺反应系统，其中该夹角约为20度。

3.如权利要求1所述的制作工艺反应系统，其中该喷气装置与该基板相距一特定高度。

4.如权利要求3所述的制作工艺反应系统，其中该特定高度实质上等于100mm。

5.如权利要求1所述的制作工艺反应系统另包含有：

离子产生装置，其设置于该清洁气流的该流动路径的范围内，该离子产生装置用来产生离子以进入该清洁气流内，用于离子化该清洁气流。

6.如权利要求5所述的制作工艺反应系统，其中该离子产生装置与该喷气装置实质上位于同一垂直面上。

7.如权利要求6所述的制作工艺反应系统，其中该离子产生装置设置于该喷气装置的下方。

8.如权利要求1所述的制作工艺反应系统另包含有：

微粒清洁设备，其设置于对应该基板的位置上，该微粒清洁设备用来带离被该清洁气流从该基板上所吹起的微粒。

9.如权利要求8所述的制作工艺反应系统，其中该微粒清洁设备为一垂直层流式(Down flow)清洁设备。

10.如权利要求1所述的制作工艺反应系统，其中该制作工艺反应室为一曝光机。