[发明专利]电压产生电路以及存储器有效

专利信息
申请号: 201010241576.9 申请日: 2010-07-30
公开(公告)号: CN101908365A 公开(公告)日: 2010-12-08
发明(设计)人: 杨光军 申请(专利权)人: 上海宏力半导体制造有限公司
主分类号: G11C5/14 分类号: G11C5/14
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201203 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电压 产生 电路 以及 存储器
【权利要求书】:

1.一种电压产生电路,包括:

比较器(G),所述比较器(G)的正输入端连接至第一电源电压(VDD);

第一分压电阻器(R11),所述第一分压电阻器(R11)的第一连接端连接至所述比较器(G)的负输入端;

第二分压电阻器(R22),所述第二分压电阻器(R22)的第一连接端接地,并且所述第二分压电阻器(R22)的第二连接端连接至所述第一分压电阻器(R11)的第一连接端;

第一PMOS晶体管(MP1),所述第一PMOS晶体管(MP1)的栅极连接至所述比较器(G)的输出端,所述第一PMOS晶体管(MP1)的源极连接至第二电源电压;以及

第二PMOS晶体管(MP2),所述第二PMOS晶体管(MP2)的源极连接至所述第一PMOS晶体管(MP1)的漏极,所述第二PMOS晶体管(MP2)的栅极连接至所述第二PMOS晶体管(MP2)的漏极以及所述第一分压电阻器(R11)的第二连接端。

2.根据权利要求1所述的电压产生电路,其特征在于,所述电压产生电路还包括:

第一补偿电阻器(R1),所述第一补偿电阻器(R1)的第一连接端连接至所述第一PMOS晶体管的漏极;

第一NMOS晶体管(MN1),所述第一NMOS晶体管(MN1)的栅极连接至所述第一补偿电阻器(R1)的第二连接端,所述第一NMOS晶体管(MN1)的源极连接至所述第一补偿电阻器(R1)的第一连接端,

补偿装置(PVT),连接至所述第一NMOS晶体管(MN1)的栅极,用于补偿第一电源电压的变化以及温度的变化。

3.根据权利要求2所述的电压产生电路,其特征在于,所述补偿装置(PVT)包括:

第二NMOS晶体管(MN2),所述第二NMOS晶体管(MN2)的栅极和漏极互连,所述第二NMOS晶体管(MN2)的源极接地;

第三NMOS晶体管(MN3),所述第三NMOS晶体管(MN 3)的源极接地,第三NMOS晶体管(MN3)的栅极连接至所述第二NMOS晶体管(MN2)的栅极,所述第二NMOS晶体管(MN2)的漏极连接至所述第一NMOS晶体管(MN1)的栅极;

第二补偿电阻(R2),所述第二补偿电阻(R2)的第一连接端连接至所述第二NMOS晶体管(MN2)的漏极,所述第二补偿电阻(R2)的第二连接端连接至第一电源电压。

4.根据权利要求2所述的电压产生电路,其特征在于,所述第二NMOS晶体管(MN2)通过增大或减小流经所述第一补偿电阻(R1)的电流来跟踪所述第一NMOS晶体管(MN1)。

5.根据权利要求2所述的电压产生电路,其特征在于,所述第一补偿电阻(R1)的温度系数为0。

6.根据权利要求3所述的电压产生电路,其特征在于,所述第二补偿电阻(R2)具有正温度系数。

7.根据权利要求1所述的电压产生电路,其特征在于,所述第二电源电压(VDDQ)是滤波后的所述第一电源电压(VDD)。

8.一种存储器,其特征在于,所述存储器包括用于为存储器产生读取电压的电压产生电路,并且所述电压产生电路包括:

比较器(G),所述比较器(G)的正输入端连接至第一电源电压(VDD);

第一分压电阻器(R11),所述第一分压电阻器(R11)的第一连接端连接至所述比较器(G)的负输入端;

第二分压电阻器(R22),所述第二分压电阻器(R22)的第一连接端接地,并且所述第二分压电阻器(R22)的第二连接端连接至所述第一分压电阻器(R11)的第一连接端;

第一PMOS晶体管(MP1),所述第一PMOS晶体管(MP1)的栅极连接至所述比较器(G)的输出端,所述第一PMOS晶体管(MP1)的源极连接至第二电源电压;以及

第二PMOS晶体管(MP2),所述第二PMOS晶体管(MP2)的源极连接至所述第一PMOS晶体管(MP1)的漏极,所述第二PMOS晶体管(MP2)的栅极连接至所述第二PMOS晶体管(MP2)的漏极以及所述第一分压电阻器(R11)的第二连接端。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宏力半导体制造有限公司,未经上海宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010241576.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top