[发明专利]用于酸性蚀刻液的离子交换树脂除砷方法、树脂再生的方法及其处理系统

权利要求书

1.一种用于酸性蚀刻液的离子交换树脂除砷方法，是用于从印制电路板酸性蚀刻废液中生产出碱式氯化铜的前期处理过程，包括如下步骤：

A、将新鲜的萃淋树脂装入离子交换器内；

B、将待处理印制电路板酸性蚀刻废液从所述离子交换器的入口泵入该离子交换器内进行除砷处理，控制所述酸性蚀刻废液在所述离子交换器内的流动速度，让其在该离子交换器内流动的时间保持在20～40分钟，然后从所述离子交换器的出口流出，得到除砷后的印制电路板酸性蚀刻废液；

C、当所述萃淋树脂处理的酸性蚀刻废液之体积是该萃淋树脂之体积的390～410倍时，该萃淋树脂的吸附能力达到饱和，则所述萃淋树脂需要进行再生处理，其步骤依次如下：

C₁将盐酸从所述离子交换器的入口泵入该离子交换器内，使该盐酸通过所述萃淋树脂，对其冲洗，并从所述离子交换器的出口流出；

C₂所述盐酸冲洗完所述萃淋树脂后，接着让自来水从所述离子交换器的入口流入该离子交换器内，使该自来水通过所述萃淋树脂，对其冲洗，并从所述离子交换器的出口流出；

C₃所述自来水清洗完所述萃淋树脂后，将氢氧化钠溶液从所述离子交换器的入口泵入该离子交换器内，使该氢氧化钠溶液通过所述萃淋树脂，对其冲洗，并从所述离子交换器的出口流出；

C₄所述氢氧化钠溶液冲洗完所述萃淋树脂后，接着再次让自来水从所述离子交换器的入口流入该离子交换器内，使该自来水通过所述萃淋树脂，对其冲洗，并从所述离子交换器的出口流出；

经过以上C₁～C₄各步骤，所述萃淋树脂再生处理完毕，可用其继续处理印制电路板酸性蚀刻废液；

重复步骤B，至所述萃淋树脂的吸附能力达到饱和，再操作步骤C，然后再重复步骤B......直至经所述离子交换器除砷处理后的酸性蚀刻废液，砷的去除率低于60％后，所述萃淋树脂需要更换，此时应清空所述离子交换器，重复实施步骤A。

2.根据权利要求1所述的用于酸性蚀刻液的离子交换树脂除砷方法，其特征在于：

步骤C₁中，所述盐酸的浓度为7～10％，该盐酸的用量为所述萃淋树脂体积的1.5～2.5倍，该盐酸通过所述离子交换器的时间为1.5～2.5小时。

3.根据权利要求1所述的用于酸性蚀刻液的离子交换树脂除砷方法，其特征在于：

步骤C₂中，所述自来水的用量为所述萃淋树脂体积的1.5～2.5倍，该自来水通过所述离子交换器的时间为20～40分钟。

4.根据权利要求1所述的用于酸性蚀刻液的离子交换树脂除砷方法，其特征在于：

步骤C₃中，所述氢氧化钠溶液的浓度为7～10％，该氢氧化钠的用量为所述萃淋树脂体积的1.5～2.5倍，该氢氧化钠通过所述离子交换器的时间为1.5～2.5小时。

5.根据权利要求1所述的用于酸性蚀刻液的离子交换树脂除砷方法，其特征在于：

步骤C₄中，所述自来水的用量为所述萃淋树脂体积的1.5～2.5倍，该自来水通过所述离子交换器的时间为20～40分钟。