[发明专利]用于酸性蚀刻液的离子交换树脂除砷方法、树脂再生的方法及其处理系统

说明书

【技术领域】

本发明涉及废水中除去特定溶解物的多级处理，特别涉及印制电路板蚀刻废液除去砷的方法，尤其涉及用于生产碱式氯化铜的印制电路板酸性蚀刻废液的离子交换树脂除砷方法；本发明还涉及在印制电路板酸性蚀刻废液的离子交换树脂除砷过程中树脂再生的方法，以及除砷和树脂再生的处理系统。

【背景技术】

印制电路板蚀刻废液(也称PCB蚀刻废液)包括碱性蚀刻废液和酸性蚀刻废液，其中印制电路板酸性蚀刻废液中铜及氯离子含量高，属酸性，内含有砷等杂质；由印制电路板酸性蚀刻废液生产出来的碱式氯化铜对砷的含量有严格要求，砷含量越低越好，一般在用印制电路板酸性蚀刻废液生产碱式氯化铜前，需要对印制电路板酸性蚀刻废液进行除砷的前期处理。

现有技术从印制电路板酸性蚀刻废液中除砷的方法包括中和沉淀法、硫化物沉淀法、铁氧体沉淀法和絮凝沉淀法，这些方法有的除砷效果不好，有的会造成二次污染，有的成本较高；现有技术从印制电路板酸性蚀刻废液中除砷的方法还包括离子树脂交换法，该方法处理量大、操作简单和分离效果好，有利于酸性蚀刻废液中各种物质的回收利用，是一种很好的除砷方法，不过该方法所用树脂包括活性炭交换树脂、硫化物的再生树脂、无机离子交换树脂和选择性螯合树脂，在酸性蚀刻废液除砷处理后，这些树脂再生较困难，并且树脂再生处理成本较高，导致采用离子树脂交换法来处理印制电路板酸性蚀刻废液中除砷的成本增加，该离子交换树脂除砷方法的推广也受到限制。

【发明内容】

本发明要解决的技术问题在于避免上述现有技术的不足之处而提出一种用于酸性蚀刻废液的离子交换树脂除砷方法，该离子交换树脂除砷方法之树脂采用萃淋树脂，该萃淋树脂再生简单、操作方便和成本较低，适合对大批量印制电路板酸性蚀刻废液的除砷处理。本发明还提出了一种酸性蚀刻液除砷所用离子交换树脂再生的方法。本发明也提出了一种用于酸性蚀刻液的离子交换树脂除砷处理系统。

本发明解决所述技术问题采用的技术方案是：

一种用于酸性蚀刻液的离子交换树脂除砷方法，是用于从印制电路板酸性蚀刻废液中生产出碱式氯化铜的前期处理过程，包括如下步骤：

A、将新鲜的萃淋树脂装入离子交换器内；

B、将待处理印制电路板酸性蚀刻废液从所述离子交换器的入口泵入该离子交换器内进行除砷处理，控制所述酸性蚀刻废液在所述离子交换器内的流动速度，让其在该离子交换器内流动的时间保持在20～40分钟，然后从所述离子交换器的出口流出，得到除砷后的印制电路板酸性蚀刻废液；

C、当所述萃淋树脂处理的酸性蚀刻废液之体积是该萃淋树脂之体积的390～410倍时，该萃淋树脂的吸附能力达到饱和，则所述萃淋树脂需要进行再生处理，其步骤依次如下：

C₁将盐酸从所述离子交换器的入口泵入该离子交换器内，使该盐酸通过所述萃淋树脂，对其冲洗，并从所述离子交换器的出口流出；

C₂所述盐酸冲洗完所述萃淋树脂后，接着让自来水从所述离子交换器的入口流入该离子交换器内，使该自来水通过所述萃淋树脂，对其冲洗，并从所述离子交换器的出口流出；

C₃所述自来水清洗完所述萃淋树脂后，将氢氧化钠溶液从所述离子交换器的入口泵入该离子交换器内，使该氢氧化钠溶液通过所述萃淋树脂，对其冲洗，并从所述离子交换器的出口流出；

C₄所述氢氧化钠溶液冲洗完所述萃淋树脂后，接着再次让自来水从所述离子交换器的入口流入该离子交换器内，使该自来水通过所述萃淋树脂，对其冲洗，并从所述离子交换器的出口流出；

经过以上C₁～C₄各步骤，所述萃淋树脂再生处理完毕，可用其继续处理印制电路板酸性蚀刻废液；

重复步骤B，至所述萃淋树脂的吸附能力达到饱和，再操作步骤C，然后再重复步骤B......直至经所述离子交换器除砷处理后的酸性蚀刻废液，砷的去除率低于60％后，所述萃淋树脂需要更换，此时应清空所述离子交换器，重复实施步骤A。

本发明还提出了一种酸性蚀刻液除砷所用离子交换树脂再生的方法，所用树脂为萃淋树脂，当所述萃淋树脂处理的酸性蚀刻废液之体积是该萃淋树脂之体积的390～410倍时，该萃淋树脂的吸附能力达到饱和，则所述萃淋树脂需要进行再生处理，依此包括如下步骤：

C₁将盐酸从所述离子交换器的入口泵入该离子交换器内，使该盐酸通过所述萃淋树脂，对其冲洗，并从所述离子交换器的出口流出；