[发明专利]曝光装置和设备制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，具有投影光学系统，该投影光学系统将在物面上配置的原版的图案投影至在像面上配置的基板，其特征在于：

所述投影光学系统具有：

在所述物面至所述像面的光路上从所述物面起依次配置的第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜；和

折射光学系统，在所述第1凹面镜和所述凸面镜之间以及所述凸面镜和所述第2凹面镜之间配置，并且具有正的屈光度；

所述折射光学系统包括：第1透镜，由折射率的温度变化系数为正的材料所构成；和第2透镜，由折射率的温度变化系数为负的材料所构成。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述投影光学系统还具有：

第1折射光学系统，配置于所述物面和所述第1平面镜之间；和

第2折射光学系统，配置于所述第2平面镜和所述像面之间。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1折射光学系统和所述第2折射光学系统包括平行平面板。

4.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1折射光学系统和所述第2折射光学系统中的至少一个具有非球面；

所述第1透镜和所述第2透镜中的至少一个具有非球面。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述第1透镜由石英所构成，所述第2透镜由萤石所构成。

6.一种制造设备的设备制造方法，其特征在于包括：

使用权利要求1至5中的任意一项所记载的曝光装置来对基板进行曝光的工序；和

将所述基板显影的工序。