[发明专利]曝光装置和设备制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及曝光装置和使用该曝光装置来制造设备的设备制造方法。

背景技术

光刻工序包括曝光工序，该曝光工序将被称为掩模或中间掩模(reticle)的原版的图案投影至涂敷了被称为光刻胶的感光剂的玻璃基板或晶片等基板上，将该基板曝光。在FPD(平板显示器，Flat Panel Display)的制造中，一般可使用具有包括反射镜的投影光学系统的曝光装置。

专利文献1涉及将玻璃基板等较大屏幕的被曝光体曝光的投影光学系统。在该文献中公开了投影光学系统，它从物体一侧起依次具有正的第1反射面、负的第2反射面、第3反射面；而在第1反射面和第2反射面之间以及第2反射面和第3反射面之间至少配置有两枚透镜。该透镜可配置于第2反射面的附近，该第2反射面为光瞳面。

适应于FPD的大屏幕化和生产率的提高的要求，曝光区域的面积在增大，入射至投影光学系统的光的能量也随之在增大。尤其在投影光学系统的光瞳或其附近，由于光束收敛，所以能量密度变高。关于构成反射面的反射镜，通过选择线性膨胀系数小的材质和选择表面吸收率小的反射膜，比较易于减小变形或进行冷却等。

然而，由于光的入射而在透镜中产生的热在透镜的周边部分通过支撑它的部件而容易逸出，但在透镜的中央部分则难以选出。由此，在透镜中产生例如从周边部分向中心部分温度逐渐升高的不均匀的温度分布，这对透镜附加了不良的屈光度(折射力)。例如，考虑透镜由石英所构成的情况。因为石英具有正的dn/dt(n为折射率，t为温度，dn/dt表示折射率的温度系数(由于温度变化所带来的折射率的变化))，所以从周边部分向中心部分温度逐渐升高的温度分布就对透镜附加了正的屈光度。如此的不良屈光度的附加，会带来成像特性的下降。

(专利文献1)日本特开2006-078631号公报。

发明内容

本发明的目的在于，抑制由投影光学系统的透镜可产生的不均匀的温度分布所带来的成像特性的下降。

本发明的一个方面涉及一种曝光装置，它具有投影光学系统，该投影光学系统将在物面上配置的原版的图案投影至在像面上配置的基板；所述投影光学系统具有：在所述物面至所述像面的光路上，从所述物面起依次配置的第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜；和折射光学系统，在所述第1凹面镜和所述凸面镜之间以及所述凸面镜和所述第2凹面镜之间配置，并且具有正的屈光度，所述折射光学系统包括：第1透镜，由折射率的温度变化系数为正的材料所构成；和第2透镜，由折射率的温度变化系数为负的材料所构成。

根据本发明，可抑制由投影光学系统的透镜可产生的不均匀的温度分布所带来的成像特性的下降。

附图说明

图1是概要表示本发明的第1实施方式的曝光装置的结构的图。

图2是概要表示本发明的第2实施方式的曝光装置的结构的图。

图3是概要表示本发明的第3实施方式的曝光装置的结构的图。

具体实施方式

以下参照附图说明本发明的优选实施方式。

(第1实施方式)

参照图1对本发明的第1实施方式的曝光装置进行说明。第1实施方式的曝光装置EX1具有：照明系统IL；投影光学系统PO；原版驱动机构(未图示)，在投影光学系统PO的物面OP上配置原版9，并对其进行扫描；和基板驱动机构(未图示)，在投影光学系统PO的像面IP上配置基板18，并对其进行扫描。照明系统IL例如可包括光源LS、第1聚光透镜3、复眼透镜4、第2聚光透镜5、狭缝规定部件6、成像光学系统7和平面反射镜8。光源LS例如可包括汞灯1和椭圆反射镜2。狭缝规定部件6规定原版9的照明范围(即对原版9进行照明的狭缝形状的光的断面形状)。成像光学系统7被配置为使狭缝规定部件6所规定的狭缝在物面成像。平面反射镜8在照明系统IL中使光路弯折。