[发明专利]硅基液晶成像器

说明书

技术领域

本发明涉及空间调制显示面板技术，尤其涉及一种具有内置反射偏振器的硅基液晶成像器。

背景技术

近年来，反射型硅基液晶(Liquid Crystal On Silicon，简称LCOS)成像器被广泛使用于各种尺寸的投影显示器，从剧场和家庭娱乐用的专业投影仪到掌上电子装置中的便携式微型皮可(pico)投影仪。

LCOS成像器的基本平面组件包括：顶罩玻璃、平面液晶单元和有源阵列底板。顶罩玻璃上形成有通常采用铟锡氧化物(Indium Tin Oxide，简称IT0)等透明导电材料制成的透明导电膜层；有源阵列基板以硅基板作为衬底基板，衬底基板上形成有反射型像素化电极阵列，平面液晶单元夹持在透明导电膜层和反射型像素化电极阵列之间。这种LCOS成像器会为适用于液晶单元的特定偏振光提供空间调制，例如，可以将光线中的P型偏振光线进行空间调制，但对于与P型偏振光线正交的S型偏振光线却起到极少的空间调制作用。虽然通常情况下提供给LCOS成像器的照明光被预偏振化，但是照明光中包括的剩余S型偏振光线仍然不经调制就会被反射回去，当LCOS成像器用作投影显示器时，上述缺陷会导致对比度的损失。

发明内容

本发明的目的是提供一种硅基液晶成像器，以避免未经空间调制的照明光被反射回去，从而减少成像器的对比度损失。

本发明实施例提供了一种硅基液晶成像器，包括：

衬底基板；

反射偏振电极阵列，形成在所述衬底基板上，所述反射偏振电极阵列包括多个反射偏振电极，每个反射偏振电极的图案构造为具有彼此平行且规则间隔并电绝缘的缝隙的平面结构；

平面液晶单元，形成在所述反射偏振电极阵列的上方；

透明导电膜层，形成在所述平面液晶单元的上方；

透明面板，置于所述透明导电膜层上且朝向入射光。

本发明所提供的硅基液晶成像器，通过内置反射偏振电极阵列，使得反射偏振电极阵列能将一部分偏振光线反射回去，而将另一部分偏振光线透过而如所希望的那样不会反射回去，从而可以降低成像器的对比度损失。

附图说明

图1为本发明实施例提供的硅基液晶成像器的横截面结构示意图；

图2为本发明实施例所提供的硅基液晶成像器中一个反射偏振电极的结构示意图。

具体实施方式

下面通过具体实施例并结合附图对本发明做进一步的详细描述。

图1为本发明实施例提供的硅基液晶成像器的横截面结构示意图，该硅基液晶成像器10属于一种空间调制显示器。该硅基液晶成像器10为一叠层结构，如图1所示，沿着与入射光20入射方向21的相反方向，该硅基液晶成像器10具体包括：衬底基板200、反射偏振电极阵列210、平面液晶单元150、透明导电膜层110和透明面板100。其中，反射偏振电极阵列210形成在衬底基板200上，反射偏振电极阵列210包括多个反射偏振电极211，每个反射偏振电极211的图案构造为具有彼此平行且规则间隔并电绝缘的缝隙的平面结构；平面液晶单元150形成在反射偏振电极阵列210的上方；透明导电膜层110形成在平面液晶单元150的上方；透明面板100置于透明导电膜层110上且朝向入射光20。

上述结构的硅基液晶成像器10中，衬底基板200可以由半导体制成，例如为硅、锗、镓和砷中的任意一种或任意组合；或者，衬底基板200还可以由固态绝缘材料中的任意一种或任意组合制成，固态绝缘材料可以包括玻璃和聚合体等。透明导电膜层110采用透明导电材料制成，例如可以由铟锡氧化物(ITO)制成。平面液晶单元150夹持在透明导电膜层110和反射偏振电极阵列210之间，对入射光20进行空间调制。各反射偏振电极211分别对应于各个像素，能够将经过空间调制的光线反射回去，从而呈现图像。

除上述基本部件之外，如图1所示，本实施例的硅基液晶成像器10还可以包括其他部件。反射偏振电极阵列210上还可以覆盖有第一取向层204，且透明导电膜层110上覆盖有第二取向层120，平面液晶单元150夹持在第一取向层204和第二取向层120之间。第一取向层204和第二取向层120可以由聚酰亚胺、氧化物、氮化物和碳中的任意一种或任意组合制成。

硅基液晶成像器10还包括驱动电路230，驱动电路230与各反射偏振电极211分别连接，为各反射偏振电极211分别独立地提供电荷充电和放电，如图1所示，驱动电路230可设置在衬底基板200上。