[发明专利]低成本电可擦可编程只读存储器阵列有效

专利信息
申请号: 201010249737.9 申请日: 2010-08-05
公开(公告)号: CN102376718A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 林信章;戴家豪;叶仰森;杨明苍;范雅婷 申请(专利权)人: 亿而得微电子股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 低成本 电可擦 可编程 只读存储器 阵列
【说明书】:

技术领域

发明是有关一种存储器阵列,特别是关于一种低成本电可擦可编程只读存储器(EEPROM)阵列。

背景技术

互补式金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS)制程技术已成为特殊应用集成电路(application specific integrated circuit,ASIC)的常用制造方法。在电脑资讯产品发达的今天,快闪存储器(Flash)与电可擦可编程只读只读存储器(Electrically Erasable Programmable Read Only Memory,EEPROM)由于皆具备有电性编写和抹除资料的非易失性存储器功能,且在电源关掉后资料不会消失,所以被广泛使用于电子产品上。

非易失性存储器是为可编程的,其是用以储存电荷以改变存储器的晶体管的栅极电压,或不储存电荷以留下原存储器的晶体管的栅极电压。抹除操作则是将储存在非易失性存储器中的电荷移除,使得非易失性存储器回到原存储器的晶体管的栅极电压。对于目前的快闪存储器架构而言,虽然面积较小,成本较低,但只支持大区块的抹写,无法只对特定之一位元记忆晶胞进行抹写,在使用上较不方便;另外对于电子式可清除程式化只读存储器的架构而言,具有位元组写入(byte write)的功能,相对快闪存储器而言使用较方便,且其一位元记忆晶胞电路图、及记忆晶胞结构剖视图,分别如图1、图2所示。每一记忆晶胞包含二晶体管:一记忆晶体管10、一选择晶体管12与一电容结构13,电容结构13是设于记忆晶体管10的上方,以作为一多晶硅记忆晶胞,由于这样的结构,造成面积较快闪存储器大,且在进行位元抹除时,往往需要将未选到的位置以晶体管加以隔离,进而提高成本需求。

因此,本发明是在针对上述的困扰,提出一种低成本电可擦可编程只读存储器(EEPROM)阵列,以解决习知所产生的问题。

发明内容

本发明的主要目的,在于提供一种低成本电可擦可编程只读存储器(EEPROM)阵列,其是具有小面积与低成本的电可擦可编程只读存储器架构,更可利用偏压方式,达成位元组写入及抹除的功能。

为达上述目的,本发明提供一种低成本电可擦可编程只读存储器阵列,包含复数条平行的位元线,其是区分为复数组位元线,此些组位元线包含一第一组位元线,位元线与复数条平行的字线互相垂直,且字线包含一第一、第二字线,并与复数条平行的共源线互相平行,共源线包含一第一共源线。另有复数子存储器阵列,每一子存储器阵列连接一组位元线、二字线与一共源线,每一子存储器阵列包含一第一、第二记忆晶胞,第一记忆晶胞连接第一组位元线、第一共源线与第一字线,第二记忆晶胞连接第一组位元线、第一共源线与第二字线,第一、第二记忆晶胞互相对称配置,并分别位于第一共源线的相异两侧。

第一、第二记忆晶胞皆作为一操作记忆晶胞,在选取操作记忆晶胞其中之一作为选取记忆晶胞,以进行操作时,与选取记忆晶胞连接同一位元线的操作记忆晶胞,且未与选取记忆晶胞连接同一共源线的操作记忆晶胞,作为复数同位元记忆晶胞,与选取记忆晶胞连接同一位元线、共源线的操作记忆晶胞,作为同源记忆晶胞,与选取记忆晶胞连接同一字线的操作记忆晶胞,作为复数同字记忆晶胞,其余操作记忆晶胞则作为复数未选取记忆晶胞。

第一、第二记忆晶胞可皆具位于P型井区或P型基板中的N型场效晶体管,亦可皆具位于N型井区或N型基板中的P型场效晶体管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于亿而得微电子股份有限公司,未经亿而得微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010249737.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top