[发明专利]芯片封装体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201010254278.3 申请日: 2010-08-12
公开(公告)号: CN101996955A 公开(公告)日: 2011-03-30
发明(设计)人: 刘建宏 申请(专利权)人: 精材科技股份有限公司
主分类号: H01L23/00 分类号: H01L23/00;H01L21/60;H01L21/78
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 芯片 封装 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种芯片封装体,特别是涉及一种晶片级芯片封装体及其制造方法。

背景技术

目前业界针对芯片的封装已发展出一种晶片级封装技术,在晶片级封装完成之后,再进行切割步骤,以分离形成芯片封装体。其中芯片封装体内的重布线路图案以和金属接垫直接接触为主,因此,在重布线路图案的制作工艺上,必须配合金属接垫的设计。

因此,业界亟需一种新颖的芯片封装体及其制作方法,以克服上述问题。

发明内容

为解决上述问题,本发明实施例提供一种芯片封装体,其包括:一半导体基板,具有至少一接垫区和至少一元件区,其中半导体基板于接垫区内包括多个重掺杂区,且两重掺杂区之间被子以绝缘隔离;多个导电垫结构,设置于接垫区上;至少一开口,位于芯片封装体的侧壁处并暴露出该些重掺杂区;及一导电图案,位于开口内并电性接触该些重掺杂区。

此外,本发明的另一实施例还提供一种芯片封装体的制造方法,包括:提供一半导体晶片,其限定有多个切割区和多个基板,每个基板包括至少一接垫区和元件区;实施一离子掺杂步骤,以在半导体晶片的接垫区内形成多个重掺杂区;形成多个导电垫结构于该些接垫区上,其中该些导电垫结构对应该些重掺杂区;沿该些切割区形成多个开口以暴露出该些重掺杂区;及于该些开口中形成一导电图案以电性接触该些重掺杂区。

为了让本发明的上述目的、特征、及优点能更明显易懂,以下配合所附附图,作详细说明如下:

附图说明

图1-图2是显示依据本发明的一实施例中,形成半导体芯片的制造方法的剖面示意图;

图3A-图3F是显示依据本发明的另一实施例中,形成芯片封装体的制造方法的剖面示意图;

图4A-图4F是显示依据本发明的另一实施例中,形成芯片封装体的制造方法的剖面示意图。

主要元件符号说明

半导体晶片300;绝缘层301;元件区100A;周边接垫区100B;绝缘壁305;半导体元件302;导电垫结构304;封装层500;间隔层310;间隙316;开口300c、300h;绝缘层320;重布线路图案330;保护层340;焊球下金属层345;导电凸块350。

具体实施方式

以下以实施例并配合附图详细说明本发明,在附图或说明书描述中,相似或相同的部分是使用相同的图号。且在附图中,实施例的形状或是厚度可扩大,以简化或是方便标示。再者,附图中各元件的部分将以描述说明之,值得注意的是,图中未绘示或描述的元件,为所属技术领域中具有通常知识者所知的形式。另外,特定的实施例仅为揭示本发明使用的特定方式,其并非用以限定本发明。

本发明是以一制作CMOS影像感测芯片封装体为例,然而微机电芯片封装体(MEMS chip package)或其他半导体芯片也可适用。亦即,可以了解的是,在本发明的芯片封装体的实施例中,其可应用于各种包含有源元件或无源元件(active or passive elements)、数字电路或模拟电路(digital or analogcircuits)等集成电路的电子元件(electronic components),例如是有关于光电元件(opto electronic devices)、微机电系统(Micro Electro Mechanical System;MEMS)、微流体系统(micro fluidic systems)、或利用热、光线及压力等物理量变化来测量的物理感测器(Physical Sensor),或是CMOS影像感测器等。特别是可选择使用晶片级封装(wafer scale package;WSP)制作工艺对影像感测元件、发光二极管(light-emitting diodes;LEDs)、太阳能电池(solar cells)、射频元件(RF circuits)、加速计(accelerators)、陀螺仪(gyroscopes)、微制动器(micro actuators)、表面声波元件(surface acoustic wave devices)、压力感测器(process sensors)或喷墨头(ink printer heads)等芯片进行封装。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精材科技股份有限公司,未经精材科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010254278.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top