[发明专利]芯片封装体及其制造方法有效
申请号: | 201010254278.3 | 申请日: | 2010-08-12 |
公开(公告)号: | CN101996955A | 公开(公告)日: | 2011-03-30 |
发明(设计)人: | 刘建宏 | 申请(专利权)人: | 精材科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/00 | 分类号: | H01L23/00;H01L21/60;H01L21/78 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 芯片 封装 及其 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种芯片封装体,特别是涉及一种晶片级芯片封装体及其制造方法。
背景技术
目前业界针对芯片的封装已发展出一种晶片级封装技术,在晶片级封装完成之后,再进行切割步骤,以分离形成芯片封装体。其中芯片封装体内的重布线路图案以和金属接垫直接接触为主,因此,在重布线路图案的制作工艺上,必须配合金属接垫的设计。
因此,业界亟需一种新颖的芯片封装体及其制作方法,以克服上述问题。
发明内容
为解决上述问题,本发明实施例提供一种芯片封装体,其包括:一半导体基板,具有至少一接垫区和至少一元件区,其中半导体基板于接垫区内包括多个重掺杂区,且两重掺杂区之间被子以绝缘隔离;多个导电垫结构,设置于接垫区上;至少一开口,位于芯片封装体的侧壁处并暴露出该些重掺杂区;及一导电图案,位于开口内并电性接触该些重掺杂区。
此外,本发明的另一实施例还提供一种芯片封装体的制造方法,包括:提供一半导体晶片,其限定有多个切割区和多个基板,每个基板包括至少一接垫区和元件区;实施一离子掺杂步骤,以在半导体晶片的接垫区内形成多个重掺杂区;形成多个导电垫结构于该些接垫区上,其中该些导电垫结构对应该些重掺杂区;沿该些切割区形成多个开口以暴露出该些重掺杂区;及于该些开口中形成一导电图案以电性接触该些重掺杂区。
为了让本发明的上述目的、特征、及优点能更明显易懂,以下配合所附附图,作详细说明如下:
附图说明
图1-图2是显示依据本发明的一实施例中,形成半导体芯片的制造方法的剖面示意图;
图3A-图3F是显示依据本发明的另一实施例中,形成芯片封装体的制造方法的剖面示意图;
图4A-图4F是显示依据本发明的另一实施例中,形成芯片封装体的制造方法的剖面示意图。
主要元件符号说明
半导体晶片300;绝缘层301;元件区100A;周边接垫区100B;绝缘壁305;半导体元件302;导电垫结构304;封装层500;间隔层310;间隙316;开口300c、300h;绝缘层320;重布线路图案330;保护层340;焊球下金属层345;导电凸块350。
具体实施方式
以下以实施例并配合附图详细说明本发明,在附图或说明书描述中,相似或相同的部分是使用相同的图号。且在附图中,实施例的形状或是厚度可扩大,以简化或是方便标示。再者,附图中各元件的部分将以描述说明之,值得注意的是,图中未绘示或描述的元件,为所属技术领域中具有通常知识者所知的形式。另外,特定的实施例仅为揭示本发明使用的特定方式,其并非用以限定本发明。
本发明是以一制作CMOS影像感测芯片封装体为例,然而微机电芯片封装体(MEMS chip package)或其他半导体芯片也可适用。亦即,可以了解的是,在本发明的芯片封装体的实施例中,其可应用于各种包含有源元件或无源元件(active or passive elements)、数字电路或模拟电路(digital or analogcircuits)等集成电路的电子元件(electronic components),例如是有关于光电元件(opto electronic devices)、微机电系统(Micro Electro Mechanical System;MEMS)、微流体系统(micro fluidic systems)、或利用热、光线及压力等物理量变化来测量的物理感测器(Physical Sensor),或是CMOS影像感测器等。特别是可选择使用晶片级封装(wafer scale package;WSP)制作工艺对影像感测元件、发光二极管(light-emitting diodes;LEDs)、太阳能电池(solar cells)、射频元件(RF circuits)、加速计(accelerators)、陀螺仪(gyroscopes)、微制动器(micro actuators)、表面声波元件(surface acoustic wave devices)、压力感测器(process sensors)或喷墨头(ink printer heads)等芯片进行封装。
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