[发明专利]液体的处理方法无效
申请号: | 201010254710.9 | 申请日: | 2010-08-11 |
公开(公告)号: | CN101995778A | 公开(公告)日: | 2011-03-30 |
发明(设计)人: | 藤田洋久;宫川昌士;高田健司;井上浩次 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 处理 方法 | ||
技术领域
本发明涉及液体的处理方法,其包括从用于剥离基板表面的有机树脂组分的液体除去树脂组分。
背景技术
在制造喷墨头的喷嘴和液晶面板中,使用光刻法。在这样的领域中,在基板上形成的金属和绝缘体上进行蚀刻时,通过由有机树脂组成的抗蚀剂保护其表面或具体部件,结束蚀刻后将该抗蚀剂除去。为了除去抗蚀剂,有进行使用氧等离子体的灰化处理的方法。在该方法中,当具有不足的抗氧化性的金属膜和有机膜暴露于基板上时,该金属膜和有机膜被氧化,这是不希望的。因此,使用有机溶剂作为剥离液将用于在该金属膜和有机膜上进行蚀刻的抗蚀剂除去。但是,由于反复使用该剥离液,溶解抗蚀剂的力减弱。因此,已使用一定时间的剥离液必须用新溶剂更换。
在全球环境保护方面,需要建立再生该剥离液而不是废弃该剥离液的再生处理技术。近年来,已开发了使用臭氧气体的剥离液的再生处理技术,由于分解时臭氧气体返回到氧,因此其安全,并且因此具有低环境负荷。
例如,日本专利申请公开No.2004-241602公开了如下方法:使用臭氧对基板表面上的抗蚀剂的剥离液处理,对其进行离子交换处理,然后将由臭氧处理产生的有机酸除去。
但是,可能存在如下情况:有机酸没有充分地在有机溶剂中解离并因此不能充分地通过离子交换处理除去,以致担心再次使用剥离液时基板状金属膜会被残留的有机酸溶解。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供通过将树脂组分从用作剥离液的液体除去而对液体进行处理的方法,以致将该液体再次用作剥离液时该液体很少影响基板上的膜例如金属膜并因此能够稳定地用作剥离液。
根据本发明的方面,液体的处理方法包括:通过使臭氧气体与含有水溶性羰基化合物和树脂的液体接触,分解该液体中的树脂;和通过使用离子交换树脂对进行该分解后的液体进行离子交换处理从而将该分解中分解该树脂而产生的有机酸从该液体除去,其中要进行该离子交换处理的液体含有水。
根据本发明的方面,能稳定地再次使用用于除去树脂组分的剥离液。
由以下参考附图对示例性实施方案的说明,本发明进一步的特征会变得清楚。
附图说明
图1是进行根据本发明的剥离液的再生处理时包括根据实施方案的剥离液的再生设备的基板处理装置的示意图。
图2是用于进行根据第一比较例的剥离液的再生处理的包括剥离液的再生设备的基板处理装置的示意图。
图3是使用根据本发明的剥离液的再生方法制造喷墨打印机基板的方法的流程图。
具体实施方式
现在根据附图对本发明的优选实施方案详细说明。
发明人发明了剥离液的再生方法,其通过使用特定的剥离液剥离基板表面上的有机树脂组分,使用臭氧气体将其中溶解有有机树脂组分的剥离液再生,和使用离子交换树脂对进行了再生处理的液体进行处理,由此能够将可能损害基板和基板上的膜的有机酸和杂质除去。具体地,用臭氧气体对剥离有机树脂组分的剥离液进行再生处理以将该剥离液中的有机树脂组分分解为低分子组分,和对该含有分解的低分子有机酸或杂质的处理液进行离子交换处理。特别地,在离子交换期间处理的液体含有水。因此,能够使处理液中的有机酸或杂质的浓度降低,由此得到再生剥离液以不腐蚀基板上的金属例如铝。特别地,根据本发明的方法中,能够使剥离液的组成和离子交换处理中离子交换树脂的组合最优化。
<剥离液的再生方法>
(剥离液)
在该实施方案中,用于剥离基板表面上的有机树脂组分的剥离液含有用于溶解和剥离该有机树脂组分的水溶性羰基化合物和水。
此外,如后所述,将有机树脂组分剥离后通过臭氧气体对剥离液进行再生处理,因此使用耐臭氧并且对臭氧不反应的那些作为剥离液。使不饱和键例如双键断裂,将具有给电子基团的芳香族化合物氧化,或者对硫化物或具有亲核原子的分子例如胺显示高响应性,臭氧将这样的材料分解。此外,在高pH下的臭氧反应中,发生显著的臭氧自分解。但是,在该过程中,可能产生高活性的OH自由基,其为参与氧化反应的主要组分。因此,可能存在如下情况:显示出将典型的氧化过程中不能分解的那些分解的强氧化力,导致产生中和热和发烟。
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