[发明专利]镀膜设备无效
申请号: | 201010255449.4 | 申请日: | 2010-08-17 |
公开(公告)号: | CN102373435A | 公开(公告)日: | 2012-03-14 |
发明(设计)人: | 裴绍凯 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C16/54 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 设备 | ||
1.一种镀膜设备,用于在大气压环境以及真空环境下镀膜,所述镀膜设备包括:
承载装置,形成有一第一收容槽以及一第二收容槽,第一收容槽与第二收容槽之间通过一闸门隔开;
基座,设置在所述第一收容槽内,用于支撑至少一待镀膜基材,所述基座背对待镀膜基材的表面上开设有一个凹槽;
清洗装置和加热装置,设置在第一收容槽的中部并固定在承载装置上;
滚筒装置,设置在清洗装置与加热装置上方,其包括多个并排设置的滚筒,滚筒之间彼此间隔,相邻滚筒间的间距等于待镀膜基材的厚度;
喷液装置,设置在滚筒装置上方,用于为所述待镀膜基材提供待镀液;
驱动装置,与基座连接,用于驱动所述基座相对所述第一收容槽旋转以及上下运动,使得所述待镀膜基材在经过所述清洗装置清洗之后,于滚筒之间穿过并由所述滚筒以及喷液装置进行镀第一膜层,并在完成镀膜之后由所述加热装置烘干;
导轨装置,设置在第二收容槽内,其包括一与所述凹槽相对应且能够相对第二收容槽运动的轨道,当闸门打开后,装载有待镀膜基材的基座的凹槽与轨道相互卡合,基座跟随轨道被移动至所述第二收容槽;
真空镀膜装置,收容在第二收容槽内,用于当基座收容至第二收容槽后,对待镀膜基材镀第二膜层;以及
控制装置,用于控制上述闸门、清洗装置、加热装置、滚筒装置、喷液装置、驱动装置、导轨装置和真空镀膜装置根据预设程序或用户操作完成镀膜。
2.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述承载装置形成有一个底面、一个与底面相对的顶面以及四个依次相连的侧面,所述底面上开设有一个通孔,所述驱动装置部分收容在所述通孔内,并通过所述通孔与基座连接;顶面上形成有一第一开口,喷液装置固定在第一开口边缘并朝向底面设置;清洗装置分别固定在相对的两个侧面上,加热装置分别固定在另外两个相对的侧面上,滚筒装置两端固定在另外两个相对的侧面上。
3.如权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,其中一个侧面上开设有一第二开口,所述第二开口与第一开口连通,一第一加强板以及一第二加强板固定在第二开口的边缘,第一加强板用于固定加热装置,第二加强板用于固定滚筒装置端部。
4.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述驱动装置包括一个旋转马达以及一个升降马达,所述旋转马达穿过所述通孔与基座固定连接并用于驱动所述基座旋转,所述升降马达具有一升降轴,所述旋转马达通过所述升降轴与所述升降马达相连并被所述升降马达驱动上下移动。
5.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述基座包括一承载板,所述承载板上形成有多个插槽用于分别收容多个待镀膜基材,插槽彼此间距,相邻插槽间的距离等于所述滚筒的直径与待镀膜基材的厚度之和。
6.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述滚筒装置上设置有一个滚动马达,用于驱动每个滚筒朝同一个方向连续滚动或者朝相反方向来回滚动。
7.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述控制装置与所述加热装置电连接,当所述加热装置加热完成之后,加热装置向所述控制装置发送触发信号,所述控制装置控制所述闸门打开。
8.如权利要求7所述的镀膜设备,其特征在于,所述控制装置还与所述闸门、滚筒装置、喷液装置、驱动装置、导轨装置、以及真空镀膜装置电连接,并分别根据对应装置的输出信号来触发对应的操作。
9.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述导轨装置包括一个底座,所述轨道突出形成在所述底座上,所述轨道相对于底座表面的高度等于所述凹槽的深度,所述底座与所述轨道之间设置有一滑动马达,滑动马达用于驱动所述轨道相对于底座水平运动。
10.如权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述轨道上设置有压力传感器,当基座与轨道完全卡合后,所述压力传感器发出卡合信号至控制装置。
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