[发明专利]镀膜设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜设备。

背景技术

镀膜是指通过物理或化学方法在光学元件表面镀上单层或多层薄膜。现有的镀膜设备通常包括两种，一种是在大气压环境下工作的滚筒式镀膜装置，另一种是必须采用真空处理技术的真空镀膜装置，例如溅镀装置、蒸镀装置、化学气相沉积装置等。采用滚筒式镀膜装置镀多层膜时，需要多次更换不同的镀膜材料，容易造成镀膜材料相互污染，降低镀膜品质；而且，对于容易被氧化的镀膜材料，在大气压环境下会大大影响产品质量。当采用真空镀膜装置镀多层膜时，通常需要多次打破真空以更换镀膜材料，如此，不仅设备成本较高，而且当需要更换镀膜材料时，还需重新抽真空，使得镀膜不连续，效率低下且镀膜质量难以保证。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种能够镀多层膜且保证镀膜质量的镀膜设备。

一种镀膜设备，用于在大气压环境以及真空环境下镀膜。所述镀膜设备包括：承载装置，形成有一开放式的第一收容槽以及一封闭式的第二收容槽，第一收容槽与第二收容槽之间通过一闸门隔开；基座，设置在所述第一收容槽内，用于支撑至少一待镀膜基材，所述基座底面上设置有一个凹槽；清洗装置和加热装置，设置在第一收容槽的中部并固定在承载装置上；滚筒装置，设置在清洗装置与加热装置上方，其包括多个并排设置的滚筒，滚筒之间彼此间隔，相邻滚筒间的间距等于待镀膜基材的厚度；喷液装置，设置在滚筒装置上方，用于为所述待镀膜基材提供待镀液；驱动装置，与基座连接，用于驱动所述基座相对所述第一收容槽旋转以及上下运动，使得所述待镀膜基材在经过所述清洗装置清洗之后，于滚筒之间穿过并由所述滚筒以及喷液装置进行镀第一膜层，并在完成镀膜之后由所述加热装置烘干；导轨装置，设置在第二收容槽内，其包括一与基座的凹槽相对应且能够相对第二收容槽运动的轨道，当闸门打开后，装载有待镀膜基材的凹槽与轨道相互卡合，基座跟随轨道被移动至所述第二收容槽；真空镀膜装置，收容在第二收容槽内，用于当基座收容至第二收容槽后，对待镀膜基材镀第二膜层；以及控制装置，用于控制上述闸门、清洗装置、加热装置、滚筒装置、喷液装置、驱动装置、导轨装置和真空镀膜装置根据预设程序或用户操作完成镀膜。

本发明的镀膜设备在大气压环境下对待镀膜基材镀第一膜层，在真空环境下镀第二膜层，镀多层膜的过程无需在第一收容槽内多次更换镀膜材料，或者对第二收容槽多次抽真空及破真空，使得镀膜连续，提高了镀膜效率且能够保证镀膜品质。

附图说明

图1是本发明实施方式提供的镀膜设备的立体分解图。

图2是图1的镀膜设备另一视角的组装剖视图。

图3是图2的镀膜设备的第一状态示意图。

图4是图2的镀膜设备的第二状态正视图。

图5是图4的镀膜设备的立体图。

图6是图2的镀膜设备的第三状态示意图。

图7是图2的镀膜设备的第四状态示意图。

图8是图2的镀膜设备的第五状态部分分解图。

图9是图8的镀膜设备的组装剖视图。

主要元件符号说明

镀膜设备    100

承载装置    10

第一收容槽  11

底面        110

通孔        115

顶面        120

第一开口    121

第二收容槽    13

侧面          130

第二开口      131

台阶          133

闸门          15

第一加强板    17

第二加强板    19

基座          20

承载板        21

插槽          23

凹槽          25

凸块          27

清洗装置      30

压缩空气气枪  31

加热装置      40

控制电路板    41

电加热元件    43

滚筒装置      50

滚筒          51

滚动马达      53

喷液装置      60

喷液端        61

驱动装置      70

旋转马达      71