[发明专利]同步辐射梯形聚焦镜的最小像展压弯设计方法有效

专利信息
申请号: 201010260810.2 申请日: 2010-08-24
公开(公告)号: CN101968570A 公开(公告)日: 2011-02-09
发明(设计)人: 李明 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 吕俊清
地址: 100049 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 同步 辐射 梯形 聚焦 最小 像展压弯 设计 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种聚焦镜的设计方法,尤其涉及一种同步辐射梯形聚焦镜的最小像展压弯设计方法,属于同步辐射光束线工程、同步辐射光学技术领域。

背景技术

同步辐射的优点之一是高亮度。亮度一般指相空间中的光子数密度,同步辐射光子通量高,相空间体积小造就了高亮度的特点。根据刘维定理,在不牺牲光子通量前提下,亮度无法提高。当压缩光束的线宽度时,其角宽度就要增大;反之,当压缩角宽度使光束变得更准直时,其线宽度就要增大。然而,不同实验对光束的相空间形状要求不同,例如荧光微区分析要求小的光斑尺寸,大分子晶体衍射实验同时要求小光斑尺寸和较好的准直性等等。微聚焦装置的产生满足了对光束小尺寸光斑、高通量面密度的需求。

目前同步辐射束线上采用较多的微聚焦装置大致可分为四类:一是Kirkpatrick-Baez镜(简称K-B镜)微聚焦装置;二是导管式微聚焦装置,又分为单管透镜和整合毛细管透镜;三是组合折射透镜式微聚焦装置;四是纯衍射型聚焦装置,主要有波带片、劳埃多层膜。K-B镜是P.Kirkpatric和A.V.Baez首先提出的以他们名字命名的聚焦成像系统,它以高传输效率(>70%)、无色散及耐辐射等诸多反射镜的优良特性,以及工艺上易于实现、像差很小等诸多K-B结构的优点,成为当前最广泛采用的微聚焦装置。如图1a和图1b所示,K-B镜由两块独立正交放置、分别负责水平和垂直聚焦的反射镜M1、M2组成,光源source发出的光束经由反射镜M1、M2的反射,聚焦至像点focus,反射镜面形多为柱面,其成像公式为:

1p+1q=1f---(1)]]>

其中,p为光源到反射镜距离,q为反射镜到聚焦像点距离,f为反射镜的焦距。由于用于微聚焦的K-B镜要有较大的缩放比,入射角要限制在全反射角以内,为了保证较大的接收,又要有较大的镜子长度,因而目前广泛采用尽可能接近理想的椭圆柱面的面形来减小像差。直接加工成型椭圆柱面镜造价非常昂贵,并且焦距无法调节。而将平面镜利用压弯技术得到椭圆柱面镜,大大降低了镜子的加工难度,并且可以实现焦距在一定范围内的调节。

计算K-B聚焦理想的镜面面形的方法如下:

如图2,p为源距,q为像距,也即p、q的定义与公式(1)相同,镜面中心处光线掠入射角为θ,镜面上最大掠入射角θmax在镜子末端位置,我们以镜子中心为原点,沿镜面长度方向为x轴建立坐标系,并得到物点坐标为(-pcosθ,psinθ),像点坐标为(qcosθ,qsinθ)。通过镜面上某点(x,y)的光线光程表达式为:

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