[发明专利]反射式画素数组基板及其制作方法

权利要求书

1.一种反射式画素数组基板的制作方法，其特征在于：包括：

提供一基板包含至少一画素区，且该画素区包含一反射区和一组件区；

形成一第一导电层于该基板上；

图案化该第一导电层以形成一闸极线、一闸极电极和一共通线于该组件区，并且形成复数个凸块于该反射区；

形成一第一绝缘层覆盖该基板、该闸极线、该闸极电极、该共通线和该复数个凸块；

形成一半导体层于该闸极电极上；

形成一第二导电层于该第一绝缘层和该半导体层上；

图案化该第二导电层以形成一源极线、一源极电极、一汲极电极位于该组件区以及一反射电极由该组件区延伸至该反射区，并且该反射电极与该等凸块重迭； 

形成一第二绝缘层覆盖该组件区以及该反射区；以及图案化该第二绝缘层于该反射区形成复数个第一开口曝露出位于各该凸块正上方的该反射电极。

2.根据权利要求1所述的反射式画素数组基板的制作方法，其特征在于：所述该基板另包含一外围电路区，该闸极线、该第一绝缘层由该组件区延伸至该外围电路区，并且在图案化该第二绝缘层时，同时图案化该外围电路区内的该第一绝缘层和该第二绝缘层形成一第二开口，曝露出该外围电路区内的部分该闸极线。

3.根据权利要求2所述的反射式画素数组基板的制作方法，其特征在于：另包含：

图案化该第二绝缘层之后，形成一第三导电层，并图案化该第三导电层后，使该第三导电层覆盖该外围电路区内的该第二绝缘层和该闸极线。

4.根据权利要求1所述的反射式画素数组基板的制作方法，其特征在于：所述各该凸块的形状包含多角形、圆形、椭圆形或环形。

5.根据权利要求1所述的反射式画素数组基板的制作方法，其特征在于：所述该反射电极完全覆盖该反射区并且位于该反射区的反射电极的表面形成一凹凸结构。

6.根据权利要求4所述的反射式画素数组基板的制作方法，其特征在于：所述各凸块为浮置。

7.一种反射式画素数组基板，其特征在于：包含：

一基板包含至少一画素区，且该画素区包含一反射区和一组件区；

一薄膜晶体管设于该组件区，该薄膜晶体管包含：

一闸极电极设于该基板上；

一闸极絶缘层覆盖该闸极电极并且延伸至该反射区；

一半导体层位于该闸极絶缘层上并与该闸极电极重叠；

一源极电极位于该半导体层和该闸极绝缘层上；以及一汲极电极位于该半导体层和该闸极绝缘层上；

复数个凸块设于该反射区的基板上并且该闸极绝缘层覆盖该各凸块，其中各该凸块为浮置； 

一反射电极位于该闸极绝缘层上，且与该汲极电极相连，并且该反射电极由该汲极电极延伸至该反射区，其中该反射区中的该反射电极与该各凸块重迭使得该反射电极的表面形成一凹凸结构；以及一绝缘层覆盖该反射区，并且该絶缘层内具有复数个第一开口曝露出位于各该凸块正上方的该反射电极。

8.根据权利要求7所述的反射式画素数组基板，其特征在于：其中该闸极电极和该各凸块是利用图案化同一层导电层而形成。

9.根据权利要求7所述的反射式画素数组基板，其特征在于：其中该基板另包含：

一外围电路区； 

一闸极线与该闸极电极相连并且由该组件区延伸至该外围电路区，并且该闸极绝缘层和该绝缘层依序覆盖该闸极线；

一第二开口位于该闸极绝缘层和该绝缘层中，并且曝露出该外围电路区内的该闸极线；以及

一导电层填入该第二开口并且覆盖该外围电路区内的该绝缘层和由该第二开口曝露出的该闸极线。

10.根据权利要求7所述的反射式画素数组基板，其特征在于：其中各该凸块的形状包含多角形、圆形、椭圆形或环形。