[发明专利]静电放电保护结构无效
申请号: | 201010267840.6 | 申请日: | 2010-08-27 |
公开(公告)号: | CN102386181A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
发明(设计)人: | 容光宇 | 申请(专利权)人: | 硕颉科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L29/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 静电 放电 保护 结构 | ||
1.一种静电放电保护结构,其特征在于,包括:
一基体,其为一第一导电型;
一焊垫,配置于该基体上;
一绝缘层,配置于该基体与该焊垫之间;
一第一掺杂区,其为一第二导电型,配置于该基体中,其中于该基体的垂直投影方向上,该焊垫的全部配置于该第一掺杂区中;以及
一导电孔,配置于该第一掺杂区与该焊垫之间并且贯穿该绝缘层,其中该焊垫通过该导电孔电性连接至该第一掺杂区。
2.如权利要求1所述的静电放电保护结构,其特征在于,其中当该第二导电型为P型时,该第一导电型为N型。
3.如权利要求1所述的静电放电保护结构,其特征在于,其中当该第二导电型为N型时,该第一导电型为P型。
4.如权利要求1所述的静电放电保护结构,其特征在于,还包括一第二掺杂区,其为该第一导电型,配置于该基体中且于该第一掺杂区外,其中该第二掺杂区电性连接至一第一电源线。
5.如权利要求1所述的静电放电保护结构,其特征在于,其中该基体为一集成电路基板。
6.如权利要求5所述的静电放电保护结构,其特征在于,还包括:
一第一阱,其为该第二导电型,配置于该基体中且于该第一掺杂区外;
一第三掺杂区,其为该第一导电型,配置于该第一阱中,其中该第三掺杂区电性连接至该焊垫;以及
一第四掺杂区,其为该第二导电型,配置于该第一阱中且于该第三掺杂区外,其中该第四掺杂区电性连接至一第二电源线。
7.如权利要求1所述的静电放电保护结构,其特征在于,其中该基体为配置于一集成电路基板内的一阱,该集成电路基板为该第二导电型。
8.如权利要求7所述的静电放电保护结构,其特征在于,还包括:
一第三掺杂区,其为该第一导电型,配置于该集成电路基板中且于该基体外,其中该第三掺杂区电性连接至该焊垫;以及
一第四掺杂区,其为该第二导电型,配置于该集成电路基板中且于该基体与该第三掺杂区外,其中该第四掺杂区电性连接至一第二电源线。
9.如权利要求1所述的静电放电保护结构,其特征在于,还包括:
一深阱,其为该第二导电型,配置于一集成电路基板内;
其中该基体配置于该深阱内。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的