[发明专利]模型基板的使用方法无效
申请号: | 201010273812.5 | 申请日: | 2010-08-30 |
公开(公告)号: | CN102002681A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 宫下哲也;白坂贤治 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56;C23C16/54;H01L21/02 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 模型 使用方法 | ||
1.一种模型基板的使用方法,在将对基板进行成膜处理的多个工艺室与基板输送室连接的基板处理装置中使用,其特征在于,包含:
从模型基板收纳部取出模型基板,经由所述基板输送室将其输入到工艺室内,进行成膜处理的工序;
对收纳于所述模型基板收纳部的多个模型基板的每一个,基于在工艺室进行的工艺制法通过计算机制作成含有成膜的膜的种类和膜厚的成膜履历的工序;
利用按照膜的种类使膜厚与成膜引起的基板的曲率变化相对应的曲率数据,基于该曲率数据和模型基板的所述成膜履历,通过计算机求出该模型基板的曲率的工序;和
基于在上述工序求出的模型基板的曲率、曲率数据、包含在所述工艺室所预定的成膜处理的膜的种类及膜厚的工艺规程,制作该模型基板向工艺室的输送规程以抑制该模型基板的翘曲的工序。
2.一种模型基板的使用方法,在将对基板进行成膜处理的多个工艺室与基板输送室连接的基板处理装置中使用,其特征在于,包含:
从模型基板收纳部取出模型基板,经由所述基板输送室将其输入到工艺室内,进行成膜处理的工序;
将收纳于所述模型基板收纳部的多个模型基板输入到用于调整该模型基板的朝向的调整室内,通过翘曲检测器对所述多个模型基板的每一个求出曲率的工序;和
基于在上述工序求出的模型基板的曲率、包含在所述工艺室所预定的成膜处理的膜的种类的工艺规程,制作该模型基板向工艺室的输送规程以抑制该模型基板的翘曲的工序。
3.如权利要求2所述的模型基板的使用方法,其特征在于,基于含有在各模型基板上成膜的膜的种类和膜厚的成膜履历、按照膜的种类使膜厚与由成膜引起的基板的曲率变化相对应的曲率数据,通过计算机求出曲率,来代替将收纳于所述基板收纳部的多个模型基板输入到调整室,通过翘曲检测器对所述多个模型基板分别求出曲率。
4.如权利要求2或者3所述的模型基板的使用方法,其特征在于,所述工艺规程含有预定的成膜处理的膜的膜厚。
5.如权利要求1~4中任一项所述的模型基板的使用方法,其特征在于,所述模型基板的输送规程由操作员制作。
6.如权利要求5所述的模型基板的使用方法,其特征在于,曲率数据显示于计算机的显示部。
7.如权利要求1~4中任一项所述的模型基板的使用方法,其特征在于,模型基板的输送规程由计算机利用程序制作。
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