[发明专利]完全平衡双沟道内存单元有效

专利信息
申请号: 201010274893.0 申请日: 2010-09-06
公开(公告)号: CN102194514A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 廖忠志;谢志宏 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G11C11/412 分类号: G11C11/412;G11C11/419
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 完全 平衡 沟道 内存 单元
【权利要求书】:

1.一种静态随机存取内存单元,其特征在于包含:

四组串联的金氧半场效应晶体管,每一该组串联的金氧半场效应晶体管具有一下拉装置以及一沟道栅装置;以及

一第一上拉装置以及一第二上拉装置,配置以使该四个下拉装置形成两个交叉耦接反相器;

其中该四个沟道栅装置的其中两者配置以形成一第一沟道,而该四个沟道栅装置的另外两者则配置以形成一第二沟道。

2.如权利要求1所述的静态随机存取内存单元,其特征在于该些组串联金氧半场效应晶体管包含:

一第一组串联N型金氧半场效应晶体管,具有一第一沟道栅装置以及一第一下拉装置皆配置于一第一连续主动区内;

一第二组串联N型金氧半场效应晶体管,具有一第二沟道栅装置以及一第二下拉装置皆配置于一第二连续主动区内;

一第三组串联N型金氧半场效应晶体管,具有一第三沟道栅装置以及一第三下拉装置皆配置于一第三连续主动区内;以及

一第四组串联N型金氧半场效应晶体管,具有一第四沟道栅装置以及一第四下拉装置皆配置于一第四连续主动区内。

3.如权利要求2所述的静态随机存取内存单元,其特征在于该第一上拉装置以及该第二上拉装置配置于一连续N型井内,其中该连续N型井与该第一、第二、第三以及第四连续主动区隔离。

4.如权利要求2所述的静态随机存取内存单元,其特征在于该些组串联金氧半场效应晶体管包含:

该第一沟道栅装置的一漏极节点,电性连接于一第一位线;

该第一沟道栅装置的一源极节点,电性连接于该第一下拉装置的一漏极节点;

该第一沟道栅装置的一栅极节点,电性连接于一第一字线;

该第一下拉装置的一源极节点,电性连接于一第一低位准电源线;

该第二沟道栅装置的一漏极节点,电性连接于一第二位线;

该第二沟道栅装置的一源极节点,电性连接于该第二下拉装置的一漏极节点;

该第二沟道栅装置的一栅极节点,电性连接于一第二字线;

该第二下拉装置的一源极节点,电性连接于该第一低位准电源线;

该第三沟道栅装置的一漏极节点,电性连接于一第一反位线;

该第三沟道栅装置的一源极节点,电性连接于该第三下拉装置的一漏极节点;

该第三沟道栅装置的一栅极节点,电性连接于该第一字线;

该第三下拉装置的一源极节点,电性连接于一第二低位准电源线;

该第四沟道栅装置的一漏极节点,电性连接于一第二反位线;

该第四沟道栅装置的一源极节点,电性连接于该第四下拉装置的一漏极节点;

该第四沟道栅装置的一栅极节点,电性连接于该第二字线;以及

该第四下拉装置的一源极节点,电性连接于该第二低位准电源线。

5.如权利要求4所述的静态随机存取内存单元,其特征在于该些组串联金氧半场效应晶体管包含:

该第一上拉装置的一漏极节点,与该第一下拉装置的该漏极节点和该第二下拉装置该漏极节点电性相连,以形成一数据节点;

该第一下拉装置的一栅极节点、该第二下拉装置的一栅极节点以及该第一上拉装置的一栅极节点,彼此电性相连并耦接于一反数据节点;

该第二上拉装置的一漏极节点,与该第三下拉装置的该漏极节点和该第四下拉装置的该漏极节点电性相连至该反数据节点;

该第三下拉装置的一栅极节点、第四下拉装置的一栅极节点以及该第二上拉装置的一栅极节点,彼此电性相连并耦接于该数据节点;以及

该第一上拉装置的一源极节点以及该第二上拉装置的一源极节点,电性连接于一高位准电源线。

6.如权利要求4所述的静态随机存取内存单元,其特征在于更包含一硅化物层,配置以使该第一沟道栅的该源极节点连接于该第一下拉装置的该漏极节点;以使该第二沟道栅的该源极节点连接于该第二下拉装置的该漏极节点;以使该第三沟道栅的该源极节点连接于该第三下拉装置的该漏极节点;并使该第四沟道栅的该源极节点连接于该第四下拉装置的该漏极节点。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010274893.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top