[发明专利]壳体及其制造方法有效
| 申请号： | 201010278449.6 | 申请日： | 2010-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN102400092A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;张满喜 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/35 |
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| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 壳体 及其 制造 方法 | ||
1.一种壳体，包括铝合金基体，其特征在于：所述壳体还包括依次形成于该铝合金基体上的铝层及AlNO层。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述铝层及AlNO层通过磁控溅射镀膜法形成。
3.如权利要求2所述的壳体，其特征在于：所述AlNO层含有AlN相、Al2O3相及Al(N，O)固溶相。
4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于：所述铝层的厚度为200～700nm，所述AlNO层的厚度为0.2～2.0μm。
5.一种壳体的制造方法，其包括如下步骤：
提供铝合金基体；
以铝靶为靶材，于该铝合金基体的表面磁控溅射铝层；
以铝靶为靶材，以氮气和氧气为反应气体，于该铝层上磁控溅射形成含有AlN相、Al2O3相及Al(N，O)固溶相的AlNO层。
6.如权利要求5所述的壳体的制造方法，其特征在于：溅射所述铝层的工艺参数为：铝靶的电源功率为5～10kw，以氩气为工作气体，其流量为130～300sccm，于铝合金基体上施加-50～-300V的偏压，溅射温度为50～130℃。
7.如权利要求6所述的壳体的制造方法，其特征在于：溅射所述铝层的时间为30～90min。
8.如权利要求7所述的壳体的制造方法，其特征在于：溅射所述AlNO层的工艺参数为：氮气的流量为10～120sccm，氧气的流量为10～60sccm。
9.如权利要求8所述的壳体的制造方法，其特征在于：溅射所述AlNO层的时间为20～60min。
10.如权利要求5所述的壳体的制造方法，其特征在于：所述壳体的制造方法还包括在进行磁控溅射铝层前对所述铝合金基体进行超声波清洗及等离子清洗的步骤。
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