[发明专利]壳体及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种壳体及其制造方法，特别涉及一种铝合金壳体及其制造方法。

背景技术

铝合金目前被广泛应用于航空、航天、汽车及微电子等工业领域。但铝合金的标准电极电位很低，耐腐蚀差，暴露于自然环境中会引起表面快速腐蚀。

提高铝合金耐腐蚀性的方法通常是在其表面形成保护性的膜层。传统的阳极氧化、烤漆及电镀等铝合金的表面处理方法存在生产工艺复杂、效率低、环境污染严重等缺点。而真空镀膜(PVD)技术虽是一种非常环保的镀膜工艺，且可镀制的膜层种类丰富、耐磨性能优异，但PVD工艺沉积的膜层大多以柱状晶形态生长，因此膜层存在大量的晶间间隙，导致膜层致密性不够而对铝合金的耐腐蚀性能的提高有限。

发明内容

鉴于此，提供一种具有较好的耐腐蚀性的铝合金的壳体。

另外，还提供一种上述壳体的制造方法。

一种壳体，该壳体包括铝合金基体、依次形成于该铝合金基体上的铝层及AlNO层。

一种壳体的制造方法，其包括如下步骤：

提供铝合金基体；

以铝靶为靶材，于该铝合金基体的表面磁控溅射铝层；

以铝靶为靶材，以氮气和氧气为反应气体，于该铝层上磁控溅射形成含有AlN相、Al₂O₃相及Al(N，O)固溶相的AlNO层。

由于铝的电极电位与铝合金相当，所述铝层不易与铝合金基体发生电偶腐蚀；此外，所述铝层的形成还可避免铝合金基体发生第二相腐蚀，因此，所述铝层的形成可显著提高所述壳体的耐腐蚀性。

在所述AlNO层的形成过程中，Al不仅能与N、O形成Al(N，O)固溶相，还能分别与N、O形成AlN相、Al₂O₃相。AlN相、Al₂O₃相及Al(N，O)固溶相多相混合物同时生长，避免了在AlNO层中形成柱状晶结构，从而显著提高AlNO层的致密性。所述AlNO层致密性的显著提高，进一步增强了壳体的耐腐蚀性。

附图说明

图1是本发明较佳实施方式壳体的剖视示意图。主要元件符号说明

壳体              10

铝合金基体        11

铝层              13

AlNO层            15

具体实施方式

请参阅图1，本发明一较佳实施例的壳体10包括铝合金基体11、依次形成于该铝合金基体11上的铝层13及AlNO(氮氧化铝)层15。所述壳体10可为3C电子产品的壳体，也可为建筑用件及汽车等交通工具的零部件等。

所述铝层13及AlNO层15均通过磁控溅射镀膜法形成。所述铝层13的厚度为200～700nm。所述AlNO层15的厚度为0.2～2.0μm。

所述壳体10的制造方法主要包括如下步骤：

提供铝合金基体11，该铝合金基体11可以通过冲压成型得到，其具有待制得的壳体10的结构。

将所述铝合金基体11放入盛装有乙醇及/或丙酮溶液的超声波清洗器中进行震动清洗，以除去铝合金基体11表面的杂质和油污。清洗完毕后烘干备用。

再对铝合金基体11的表面进行氩气等离子清洗，进一步去除铝合金基体11表面的油污，以改善铝合金基体11表面与后续涂层的结合力。对铝合金基体11的表面进行氩气等离子清洗的方法包括如下步骤：将铝合金基体11放入真空镀膜机(图未示)的镀膜室内的工件架上，抽真空该镀膜室至8.0×10^-3pa，以300～600sccm(标准状态毫升/分钟)的流量向镀膜室内通入纯度为99.999％的氩气(工作气体)，于铝合金基体11上施加-300～-800V的偏压，对铝合金基体11表面进行等离子清洗，清洗时间为3～10min。

采用磁控溅射镀膜法在铝合金基体11表面依次形成铝层13及AlNO层15。形成该铝层13及AlNO层15的具体操作方法及工艺参数为：