[发明专利]基板处理装置及基板处理方法有效
申请号: | 201010281700.4 | 申请日: | 2010-09-13 |
公开(公告)号: | CN102024734A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 广木勤 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人: | 柳春雷;南霆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 方法 | ||
1.一种基板处理装置,包括:
载置台,载置搬运容器,该搬运容器可收纳多个基板;
减压处理室,在减压气氛下对基板实施处理;
装载锁定室,在该装载锁定室与所述减压处理室之间进行基板的接收和交付,并能够在减压气氛与常压气氛之间切换;
大气搬运室,具有主搬运单元,该主搬运单元在常压气氛中从所述载置台向所述装载锁定室搬运收纳在所述搬运容器中的基板;以及
贮存器,在压力比所述减压气氛高的气氛中保持处理完的基板;所述基板处理装置的特征在于,
在所述基板处理装置中设置有迂回路径,该迂回路径将处理完的基板在不经由所述常压搬运室的情况下从所述装载锁定室搬运至所述贮存器,
在所述迂回路径中配置副搬运单元,该副搬运单元将处理完的基板从所述装载锁定室搬运至所述贮存器,
通过所述常压搬运室的所述主搬运单元将处理完的基板从所述贮存器搬运至所述载置台的所述搬运容器。
2.如权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
所述装载锁定室设置有专用于放入的装载锁定室和专用于取出的装载锁定室,所述专用于放入的装载锁定室向所述减压处理室交付基板,所述专用于取出的装载锁定室从所述减压处理室接收基板,
所述常压搬运室的所述主搬运单元将收纳在所述载置台的所述搬运容器中的未处理的基板搬运到所述专用于放入的装载锁定室,
所述迂回路径的所述副搬运单元将处理完的基板从所述专用于取出的装载锁定室搬运至所述贮存器。
3.如权利要求1或2所述的基板处理装置,其特征在于,
在所述贮存器中设置有搬入口和搬出口,处理完的基板经由所述搬入口从所述迂回路径搬入到所述贮存器中,处理完的基板经由所述搬出口从所述贮存器搬出到所述常压搬运室,
在所述贮存器的所述搬入口和所述搬出口上设置有开启和关闭所述搬入口和所述搬出口的闸阀。
4.如权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,
在所述贮存器中设置有固定架,该固定架具有多个收纳部,该收纳部在上下方向上收纳多个处理完的基板,
所述副搬运单元具有上下驱动轴,该上下驱动轴使处理完的基板上下移动,以能够将处理完的基板收纳到上下方向上高度不同的收纳部中。
5.如权利要求1至3中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,
在所述贮存器中设置有基板可动机构,该基板可动机构具有多个收纳部,并且使收纳在多个收纳部中的多个基板上升和/或下降,所述收纳部在上下方向上收纳多个处理完的基板,
所述副搬运机构向上升或下降到一定高度的基板可动机构的收纳部交付处理完的基板。
6.如权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于,
所述贮存器的所述基板可动机构包括:无端状的带;多个支承部,隔开一定间隔安装在所述带上,用于支承多个基板;以及带轮,所述带被挂设在所述带轮上,所述带轮使所述带循环;
通过使所述带循环,使所述多个支承部在上下方向上移动,并且将移动至上下方向上的一端的保持部送回到上下方向上的另一端。
7.如权利要求5或6所述的基板处理装置,其特征在于,
在所述贮存器的下部设置有用于排出所述贮存器内的大气的排气装置,以使大气从所述贮存器的上部向所述贮存器的下部流动,
所述贮存器的所述基板可动机构使多个处理完的基板从所述贮存器的下部向所述贮存器的上部上升。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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