[发明专利]一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201010296317.6 申请日: 2010-09-29
公开(公告)号: CN101949005A 公开(公告)日: 2011-01-19
发明(设计)人: 刘革 申请(专利权)人: 沈阳东创贵金属材料有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C22C1/02
代理公司: 沈阳东大专利代理有限公司 21109 代理人: 梁焱
地址: 110015 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 真空 磁控溅射 香槟 色金靶材 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材,其成份按质量百分比为: Y 0.1%~1.3%, Fe 1.2%~3%, Cr 0.5%~2.5%, In 0.5%~2%, Al 0.2%~1%,其余为Au。

2.权利要求1所述的用于真空磁控溅射的香槟色金靶材制备方法,其特征在于:原料配比按质量百分比为:Y 0.1%~1.3%, Fe 1.2%~3%, Cr 0.5%~2.5%, In 0.5%~2%, Al 0.2%~1%,其余为Au;采用高频感应炉熔炼,先将铁和铬金属放入粘土坩埚底部,再将金料加入坩埚内,开始熔炼,待合金熔化后搅拌均匀,然后再依次加入低熔点金属铟、铝及稀土钇,将炉温控制为1150~1250℃,在该温度条件下精炼3~5分钟,精炼完成后将全部熔化的合金浇入预热为300~400℃的铸铁模中,冷凝后取出金合金锭,在空气气氛中自然冷却至室温,通过铣面、冷轧、矫直和剪切操作,获得香槟色金靶材。

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