[发明专利]一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法有效
申请号: | 201010296317.6 | 申请日: | 2010-09-29 |
公开(公告)号: | CN101949005A | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
发明(设计)人: | 刘革 | 申请(专利权)人: | 沈阳东创贵金属材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C22C1/02 |
代理公司: | 沈阳东大专利代理有限公司 21109 | 代理人: | 梁焱 |
地址: | 110015 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 真空 磁控溅射 香槟 色金靶材 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于冶金技术领域,涉及贵金属合金的加工技术,具体涉及香槟色金靶材及其制备方法。
背景技术
香槟金的色度相当于标准色度ISO 8654:1987的0.5N。其色彩清淡高雅,深受欧美市场的欢迎。由于颜色独特,以往生产工艺都是采用水电镀的工艺来调色,既污染环境,成本高又不耐磨。采用真空炉内磁控溅射香槟色金镀膜,在金中添加稀土元素及其它贱金属,使其色泽光亮淡雅、色度均衡,抗氧化性能好且显著提高其硬度及耐磨性。
发明内容
针对现有香槟色金靶材生产工艺存在的不足之处,本发明提供一种用于真空磁控溅射的香槟色金靶材及其制备方法。
本发明的用于真空磁控溅射的香槟色金靶材成份按质量百分比为: 钇(Y)0.1%~1.3%, 铁(Fe)1.2%~3%, 铬(Cr)0.5%~2.5%, 铟(In)0.5%~2%, 铝(Al)0.2%~1%,其余为金(Au)。
本发明的用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的制备方法如下。
原料配比按质量百分比为: 钇(Y)0.1%~1.3%, 铁(Fe)1.2%~3%, 铬(Cr)0.5%~2.5%, 铟(In)0.5%~2%, 铝(Al)0.2%~1%,其余为金(Au)。采用高频感应炉熔炼,先将铁和铬金属放入粘土坩埚底部,再将金料加入坩埚内,开始熔炼,待合金熔化后搅拌均匀。然后再依次加入低熔点金属铟、铝及稀土钇,将炉温控制为1150~1250℃,在该温度条件下精炼3~5分钟。精炼完成后将全部熔化的合金浇入预热为300~400℃的铸铁模中。冷凝后取出金合金锭,在空气气氛中自然冷却至室温。通过常规的铣面、冷轧、矫直和剪切操作,最终获得香槟色金靶材。圆柱形靶材需要将金合金拉伸成无缝管后镶嵌入铜靶基中。
本发明的香槟色金靶材主要应用于真空炉内镀膜手表、手机壳、首饰及装饰产品领域。采用本发明的香槟色金靶材应用于真空磁控溅射镀膜技术中,可以获得色泽鲜艳的香槟色金合金镀膜。膜层色泽光亮柔和,清淡高雅,膜层表面硬度高、耐磨性好且具有及佳的抗氧化性能,可以避免水电镀工艺带来的环境污染并保证膜层的色度稳定。本发明的香槟色金靶材产品的各项技术指标均满足国际标准,市场应用的效果极佳。
具体实施方式
实施例1
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的成份按质量百分比为: 钇(Y)0.7%, 铁(Fe)2.1%, 铬(Cr)1.5%, 铟(In)1.3%, 铝(Al)0.6%,其余为金(Au)。
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的制备方法如下。
原料配比按质量百分比为:钇(Y)0.7%, 铁(Fe)2.1%, 铬(Cr)1.5%, 铟(In)1.3%, 铝(Al)0.6%,其余为金(Au)。采用高频感应炉熔炼,先将铁和铬金属放入粘土坩埚底部,再将金料加入坩埚内,开始熔炼,待合金熔化后搅拌均匀。然后再依次加入低熔点金属铟、铝及稀土钇,将炉温控制为1200℃,在该温度条件下精炼4分钟。精炼完成后将全部熔化的合金浇入预热为350℃的铸铁模中。冷凝后取出金合金锭,在空气气氛中自然冷却至室温。通过常规的铣面、冷轧、矫直和剪切等操作,最终获得香槟色金靶材。
实施例2
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的成份按质量百分比为: 钇(Y)1.3%, 铁(Fe) 3%, 铬(Cr)0.5%, 铟(In)0.5%, 铝(Al)0.2%,其余为金(Au)。
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的制备方法如下。
原料配比按质量百分比为:钇(Y)1.3%, 铁(Fe) 3%, 铬(Cr)0.5%, 铟(In)0.5%, 铝(Al)0.2%,其余为金(Au)。采用高频感应炉熔炼,先将铁和铬金属放入粘土坩埚底部,再将金料加入坩埚内,开始熔炼,待合金熔化后搅拌均匀。然后再依次加入低熔点金属铟、铝及稀土钇,将炉温控制为1250℃,在该温度条件下精炼3分钟。精炼完成后将全部熔化的合金浇入预热为400℃的铸铁模中。冷凝后取出金合金锭,在空气气氛中自然冷却至室温。通过常规的铣面、冷轧、矫直和剪切等操作,最终获得香槟色金靶材。
实施例3
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的成份按质量百分比为: 钇(Y)0.1%, 铁(Fe)1.2%, 铬(Cr)2.5%, 铟(In)2%, 铝(Al)1%,其余为金(Au)。
用于真空磁控溅射的香槟色金靶材的制备方法如下。
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