[发明专利]一种光掩模在清洗过程中的传输方法有效

专利信息
申请号: 201010300502.8 申请日: 2010-01-20
公开(公告)号: CN102125921A 公开(公告)日: 2011-07-20
发明(设计)人: 徐飞;金海涛;吉保国 申请(专利权)人: 常州瑞择微电子科技有限公司
主分类号: B08B13/00 分类号: B08B13/00;B08B3/00;G03F1/00
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 金辉
地址: 213022 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 光掩模 清洗 过程 中的 传输 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种光掩模在清洗过程中的传输方法。

背景技术

随着社会的不断发展和进步,电脑、手机、IC卡等等已成为现代人生活必不可少的一部分,现代高速计算机、通讯系统、流水线生产和交通网络等等也成为各个领域必不可少的组成部分,然后统统这些都是建立在发达的半导体集成电路技术上的,因此可以说半导体集成电路已经在人民生活、工业生产、社会管理等等各个方面有着极为重要的地位。

在集成电路生产制作流程中,最前沿、最关键部分是光掩模,光掩模是集成电路设计的载体,是半导体芯片制作过程中必不可少的“模具”,光掩模的技术高低决定了半导体芯片的运行速度和可靠性。一套光掩模可复制出成千上万的芯片,因此光掩模的品质决定了半导体芯片的先进程度。

光掩模的制作工艺中必不可少的一个环节就是光掩模的清洗工艺,传统的光掩模清洗过程是使用机械手夹持光掩模放入不同的清洗腔内进行清洗,由于光掩模的是被机械手直接接触,因此清洗后的光掩模还是容易受到机械手的污染,而且光掩模被机械手夹持的地方也会容易出现损坏,最重要的是光掩模有多种不同的尺寸和形状,为配合不同尺寸和形状的光掩模就需要设计非常多不同型号的机械手,机械手的生产是非常昂贵的而且更换也不方便。

综上所述,传统的光掩模的清洗工艺具有成品率低、生产成本高、安装使用不方便等缺点。因此迫切需要在现有设备的基础上采用新的方法与相应的装置来解决现有技术中的缺点。

发明内容

本实发明的目的在于提供一种光掩模在清洗过程中的传输方法,简单方便,对光掩模的清洗干净彻底,更有效降低生产成本。

实现本发明目的的技术方案是:一种光掩模在清洗过程中的传输方法,具有以下步骤:

①先将光掩模放置于卡盘上;

②机械手抓住放置有光掩模的卡盘,并将其移动至翻转装置上;

③翻转装置将卡盘上的光掩模翻转;

④机械手再次抓住放置有光掩模的卡盘,并将其依次移动至各个不同的工艺腔内进行清洗;

⑤清洗完成后机械手抓住放置有光掩模的卡盘,并将其送回翻转装置上;

⑥翻转装置再次将卡盘上的光掩模翻转;

⑦机械手抓住放置有光掩模的卡盘,并将其送回初始位置。

步骤①中的卡盘包括把手、托盘和数个定位机构;所述把手位于托盘的底部,定位机构均匀设置于卡盘的托盘的上部;

步骤①中光掩模放置于卡盘上的具体方法是:将光掩模放置在卡盘的定位机构上,由定位机构卡住光掩模。

所述卡盘的定位机构有侧面设有缺口,中心设有穿过托盘的圆孔。

所述卡盘的定位机构上还在所述圆孔附近设置有用于支撑光掩模的凸点。

所述卡盘的定位机构的下半部为圆柱形,上半部分为两片扇型柱,缺口位于两片扇型柱之间;所述定位机构通过两片扇型柱卡住光掩模。

所述把手的底部设有非圆形的卡槽,把手左右两侧的中部均设有抓槽。

所述机械手的形状与抓槽相配合;

步骤②中机械手抓住把手的具体方法是:机械手抓住把手的抓槽的槽底。

步骤③和④中的翻转装置和工艺腔均设有与卡盘的卡槽配合的卡头。

将卡盘放置在翻转装置和工艺腔的方法是:让卡盘的卡槽罩住翻转装置或者工艺腔的卡头。

对于不同型号的光掩模设有相应型号的卡盘,卡盘的把手的尺寸和形状是固定的。

所述卡盘是耐腐蚀的塑料材质。

本发明具有以下的有益效果:(1)本发明为光掩模提供了一个随行的卡盘,在移动光掩模的过程中,机械手只接触卡盘而并不与光掩模直接接触,这种方法解决了现有技术中机械手容易污染、损坏光掩模的缺点。

(2)本发明对于不同型号即不同尺寸和形状的光掩模设有相应型号的卡盘,卡盘的把手的尺寸和形状是固定的,这样对于不同型号的光掩模就不必要设置相应的机械手,只需要设置一套机械手和不同型号的卡盘便能完成对各种型号光掩模的清洗,而卡盘是耐腐蚀的塑料材质,其注塑生产成本远远低于机械手的生产成本,而且更换卡盘也比更换机械手简单得多。

(3)本发明的定位机构侧面设有缺口,中心设有穿过托盘的圆孔,这样在清洗光掩模时,光掩模与卡盘接触处的液体就能从此缺口和圆孔中排出,清洗干净彻底。

(4)本发明的定位机构上还设置有凸点,凸点一方面能够减少光掩模与定位机构的接触面积,另一方面使光掩模与定位机构上的圆孔之间形成空隙,方面清洗液体的甩出;这样的结构能使得光掩模的清洗更加充分和彻底。

附图说明

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