[发明专利]半导体工艺设备组件和部件的兆声精密清洁

权利要求书

1.一种清洁处理元件的装置，包含：

具有载体元件的处理室，其中该载体元件能够支撑该处理室内的该处理元件；

流体供应组件，该流体供应组件能够向该处理元件的表面供应流体；以及

波束组件，该波束组件能够产生高频兆声声波能量波束，其中该高频兆声声波能量波束被应用于该处理元件的表面。

2.根据权利要求1所述的装置，其中该流体供应组件包括将喷嘴耦合于流体源的供应管线。

3.根据权利要求1所述的装置，其中该流体是去离子水。

4.根据权利要求1所述的装置，其中该流体是含水碱溶液、含水酸溶液、中性表面活性剂溶液、酸性表面活性剂溶液、碱性表面活性剂溶液、含水表面活性剂溶液或有机溶剂和水的混合物。

5.根据权利要求1所述的装置，其中该波束组件是扫描波束组件，该扫描波束组件能够使用扫描运动以对该处理元件的该表面施加该声波能量波束。

6.根据权利要求1所述的装置，其中该高频兆声声波能量是具有600KHz到2MHz的频率的能量。