[发明专利]光致发光薄膜、壳体及壳体的制作方法

说明书

技术领域

本发明是关于一种光致发光薄膜、壳体及壳体的制作方法。

背景技术

电子产品的畅销与否与产品的外观有很大关系，制造商亦不停地开发各种款式的外壳，以求获得市场的青睐。产品不仅在外观上变化，材质上亦不停地尝试，如采用金属制成的壳体，或者通过采用嵌入成型的方法在壳体表面形成有图案的薄膜，然，该等壳体薄膜图案单调，趣味性不足，难以吸引消费者眼球。

发明内容

鉴于上述内容，有必要提供一种能形成在电子装置壳体上以增强电子装置外观趣味性的光致发光薄膜。

另外，有必要提供一种形成有所述光致发光薄膜的壳体。

此外，有必要提供一种所述壳体的制作方法。

一种光致发光薄膜，所述光致发光薄膜主要由掺铟氧化锌组成。

一种壳体，包括一基体及形成在基体上的一光致发光薄膜，所述光致发光薄膜主要由掺铟氧化锌组成。

一种壳体的制作方法，包括以下步骤：

提供一基体，将基体表面进行清洗；

将基体进行物理气相沉积，使基体表面形成掺铟氧化锌薄膜。

相较于现有技术，本光致发光薄膜主要由掺铟氧化锌组成，其能在光线照射条件下储存能量，在光线撤除后可以发光，铟的掺杂增强了所述光致发光薄膜的发光性能。该种在无光线照射条件下壳体可发光的现象增加了壳体的使用趣味性。所述壳体通过采用物理气相沉积方法制作，工艺简单。

附图说明

图1是本发明较佳实施例一壳体的截面示意图。

主要元件符号说明

壳体            10

基体            11

光致发光薄膜    12

具体实施方式

本发明较佳实施例一电子装置的壳体10包括一基体11及一覆盖在基体11上表面的一光致发光薄膜12。

所述基体11可由金属材质制成，如不锈钢、铜、钛、钛合金、铝、铝合金等。

所述光致发光薄膜12主要由掺铟氧化锌组成，还可进一步含有稀有元素，如锶、铕、铂等。该光致发光薄膜12的厚度薄，在500nm以内。该光致发光薄膜12在光照下可吸收及储存能量，并在无光照的条件下将能量以光线的形式放出，实现发光的功能，增强了所述壳体10的使用趣味性。该光致发光薄膜12可利用物理气相沉积(PVD)技术形成于基体11的表面。

所述壳体10的制作方法，主要包括以下步骤：

(1)将基体11表面进行化学超声波清洗，如采用无水乙醇或丙酮对基体11进行超声波清洗，以除去基体11表面的油污。

(2)将基体11表面进行等离子体清洗，以进一步除去基体11表面的油污及氧化物等，以及改善基体11表面与后续形成的光致发光薄膜12的结合力。具体过程可为：将超声波清洗后的基体11放入一真空镀膜机中，抽真空该镀膜机的腔体至3.0×10^-5Torr(1Torr＝133.32Pa)，然后通入流量为300～500sccm(标准毫升每分)的工作气体氩气(纯度为99.999％)，对基体11施加-300～-500V的偏压，使镀膜室中产生高频电压，使所述氩气发生离子化而产生氩气等离子体对基体11的表面进行物理轰击，而达到对基体11表面等离子体清洗的目的。所述等离子体清洗的时间可为3～20分钟。

(3)对基体11进行物理气相沉积，使基体11表面形成掺铟氧化锌薄膜。该物理气相沉积的具体过程为：基体11在真空镀膜机中经过等离子体清洗后，调节基体11的偏压至-100～-300V，并控制基体11的温度为20～300℃，向镀膜机的腔体通入流量为150～300sccm(标准状态毫升/分钟)的高纯氩气及流量为10～120sccm的氧气，接着开启溅镀靶锌靶，该锌靶可以是单一的锌金属，也可以是锌与稀有元素如锶、铕、铂等的一种或多种形成的合金，设置锌靶的功率为3～10kw(千瓦)，溅镀20～60min(分钟)，则基体11的表面将充分地覆盖一氧化锌膜。然后关闭锌靶的电源及停止通入氧气，开启溅镀靶铟靶溅镀5～10分钟，在氧化锌膜的部分表面沉积铟，使铟局部地掺杂在氧化锌膜中，从而在基体11表面形成掺铟的氧化锌薄膜，制得所述光致发光薄膜12。

所述的氧化锌膜在光照下可吸收能量，其电子从低轨跃迁至高轨，无光照后，电子从高轨回迁至低轨并以光能的形式释放能量，而出现发光的现象。而铟的掺杂可以提高氧化锌的电子从高轨回迁至低轨的传导性，从而提高了氧化锌的发光性能，使得光致发光薄膜12具有更强的发光性能，增强了壳体10的使用趣味性。