[发明专利]具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法

说明书

技术领域

本发明涉及一种电镀制品的制法，特别是指具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法。

背景技术

一般物品或是货币，为了使消费者可辩识出真品与仿冒品的差别，通常会在物品上粘贴激光防伪贴纸，激光防伪贴纸的表面形成光栅，通过光栅产生光学上的干涉效应，当人眼以不同视角目视该激光防伪贴纸即可看到不同图案与色彩的呈现。

激光防伪标签贴纸由该物品所属机构发行，其他人无法完全复制该防伪标签贴纸，所以将该防伪标签贴纸粘贴在商品上即可供消费者辨识真品或是仿冒品。

现有的工艺技术只可将具有防伪标签的图案应用在平面模具，再以平面模具将该图案转印至纸制品，例如贴纸或纸钞；然而，将防伪图案形成在贴纸上，再由贴纸贴在物品上的方式，因激光防伪贴纸容易被撕下，被撕下激光防伪贴纸又可再贴附于其他仿冒的物品，则无法提供消费者根据激光防伪标签贴纸辨识商品的真伪。

或者，形成在物品上的防伪图案，例如现行的中国台湾五十元硬币，使用者以不同视角目视该侧面，将硬币向左倾斜15度其可呈现「五十」图样，而向右倾斜可呈现「50」图样，因此提供消费者或店家基础的辩识真伪币；因其图案不具有色彩变化而显得单调，且需分别倾斜相当角度才可辨识出其不同的图案，而不便于辨识。

发明内容

鉴于现有工艺技术只能将防伪标签形成在纸制品上，导致因防伪标签容易被撕下使防伪贴纸失去其意义，以及形成在物品上的防伪图案不具有色彩变化而显得单调，与不便于辨识的问题；由此，本发明提供一种制法，可在物品上形成防伪图案。

为达到前面揭示目的，本发明所采用的技术手段提供一种具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法，包含：

在一基材表面成形一光致抗蚀剂层；

以点矩阵光刻手段将具有全像效果的图案移转至该基材表面的光致抗蚀剂层，显影后使留在该基材上的光致抗蚀剂具有全像效果的点矩阵光栅结构，且在点矩阵光栅结构中，每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间；

在基材与光致抗蚀剂上形成导电薄膜，而成为电镀基材；

将该电镀基材沉置电镀槽中，以电镀手段令电镀基材的表面形成一电镀体后取出；

从该电镀基材上剥离该电镀体，即为所要的电镀制品，该电镀制品的表面形成对应于电镀基材的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构，其中，该电镀制品的表面的点矩阵光栅结构中，每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间。

因此，该电镀制品的表面形成对应于电镀基材的表面的具有全像效果的点矩阵光栅结构，通过光栅产生光学上的干涉效应，当人眼以不同视角目视该电镀制品即可看到其表面呈现不同图案与色彩。

附图说明

图1是本发明具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法的制造流程图。

图2是本发明制法所得电镀制品的一较佳实施例平面示意图。

图3是本发明制法所得电镀制品的一较佳实施例局部放大图。

图4是本发明制法所得电镀制品的一较佳实施例区块示意图。

图5是本发明制法所得电镀制品的一较佳实施例的单一区块剖面示意图。

图6是本发明制法所得电镀制品应用于一模具的立体分解图。

图7是本发明制法所得电镀制品应用于一模具的剖面示意图。

附图标记说明：10-镍钴合金制品；11-区块；20-阳模；30-阴模；40-模穴。

具有体实施方式

请参考图1所示，是本发明具有点矩阵光栅结构的电镀制品的制法的一较佳实施例工艺流程图，包含以下步骤：

在一基材表面成形一光致抗蚀剂层，其以玻璃、金属或塑胶薄片等作为基材，并在该基材的表面以涂布方式形成该光致抗蚀剂层；

以点矩阵光刻手段将具有全像效果的点矩阵图案移转至该基材表面的光致抗蚀剂层，显影后使留在该基材上的光致抗蚀剂图案具有全像效果的点矩阵光栅结构，其利用内建绘图软件的电脑设计一图案，并令该图案可经过全像(hologram)设计而具有3D立体影像的效果，再将该图案输入至一点矩阵光刻装置，利用该点矩阵光刻装置以点矩阵光刻手段将点矩阵图案移转至该基材表面的光致抗蚀剂层，接续显影后使留在该基材上的光致抗蚀剂形成凹凸状的具有全像效果的点矩阵光栅结构，且在点矩阵光栅结构中，每两凸部的间距介于0.39至0.78微米之间；

在基材与光致抗蚀剂表面形成一导电薄膜，而成为电镀基材，其中可以利用银镜反应、蒸镀或溅镀等方式在该基材上的光致抗蚀剂表面形成所述的导电薄膜，使电镀基材具有导电性；