[发明专利]特征点定位装置、其处理方法及图像识别装置

权利要求书

1.一种特征点定位装置，其针对图像数据中的预定图案定位多个特征点，该特征点定位装置包括：

第一候选决定单元，其被配置为执行第一候选决定处理，以决定所述特征点的候选位置；

第二候选决定单元，其被配置为执行处理速度高于所述第一候选决定处理的第二候选决定处理，以决定所述特征点的候选位置；

控制单元，其被配置为控制所述第一候选决定单元和所述第二候选决定单元，以根据操作模式而针对各个所述特征点选择性地执行所述第一候选决定处理和所述第二候选决定处理；以及

校正单元，其被配置为基于所述多个特征点之间的布局关系，来校正通过所述第一候选决定处理和所述第二候选决定处理获得的所述多个特征点的所述候选位置，

其中，当所述操作模式是以高于通常模式的速度执行操作的高速模式时，所述控制单元进行控制以针对比所述通常模式中多的特征点执行所述第二候选决定处理。

2.根据权利要求1所述的特征点定位装置，其中，所述第二候选决定处理需要比所述第一候选决定处理小的计算量。

3.根据权利要求1所述的特征点定位装置，其中，在所述第一候选决定处理和所述第二候选决定处理中，通过搜索所述图像数据中的范围来决定所述特征点的所述候选位置，并且所述第二候选决定处理进行搜索的范围窄于所述第一候选位置决定处理进行搜索的范围。

4.根据权利要求1所述的特征点定位装置，其中，所述校正单元包括：

生成单元，其被配置为通过联结所述多个特征点的所述候选位置的坐标数据来生成矢量数据；

减法器，其被配置为从所述生成单元生成的所述矢量数据中减去预先计算出的平均矢量；

投影单元，其被配置为使用预先计算出的本征矢量，将所述减法器减过的所述矢量数据投影到具有与所述本征矢量相同维度的子空间上；

逆投影单元，其被配置为使用所述本征矢量，对所述投影单元投影了的所述矢量数据进行逆投影；以及

加法器，其被配置为将所述平均矢量加到由所述逆投影单元进行了逆投影的所述矢量数据中，并将结果作为所述特征点的校正位置输出。

5.根据权利要求4所述的特征点定位装置，其中，通过使用根据所述操作模式所需的所有特征点的位置坐标数据进行学习，来生成所述平均矢量和所述本征矢量。

6.根据权利要求4所述的特征点定位装置，其中，所述第二候选决定单元将与所述平均矢量对应的元素决定为所述特征点的所述候选位置。

7.根据权利要求1所述的特征点定位装置，其中，所述控制单元包括状态确定单元，所述状态确定单元被配置为确定所述图像数据中的所述预定图案的状态，并且，

所述控制单元控制所述第一候选决定单元和所述第二候选决定单元，以根据所述状态确定单元的确定结果和所述操作模式而针对所述各个特征点选择性地执行所述第一候选决定处理和所述第二候选决定处理。

8.一种图像识别装置，其基于根据权利要求1所述的特征点定位装置决定的所述多个特征点的位置，来识别所述图像数据中的所述预定图案。

9.一种特征点定位装置的处理方法，所述特征点定位装置针对图像数据中的预定图案定位多个特征点，所述处理方法包括以下步骤：

根据操作模式选择性地执行第一候选决定处理和第二候选决定处理，其中，所述第一候选决定处理决定所述特征点的候选位置，所述第二候选决定处理以高于所述第一候选决定处理的处理速度决定所述特征点的候选位置，并且当所述操作模式是以高于通常模式的速度执行操作的高速模式时，针对比所述通常模式中多的特征点执行所述第二候选决定处理；以及

基于所述多个特征点之间的布局关系，来校正通过所述第一候选决定处理和所述第二候选决定处理获得的所述多个特征点的所述候选位置。