[发明专利]铟锡氧化物薄膜的回收方法以及基板的回收方法

权利要求书

1.一种铟锡氧化物薄膜的回收方法，其特征在于，包括：

提供一待回收物，该待回收物具有一铟锡氧化物薄膜；

使一碱液与该铟锡氧化物薄膜接触，以使该铟锡氧化物薄膜自该待回收物剥离并混合于该碱液中，其中该碱液的成分包括氢氧化钾及/或氢氧化钠；以及

收集剥离的该铟锡氧化物薄膜与该碱液的混合物，并自该铟锡氧化物薄膜与该碱液的混合物中过滤而取得含铟的粉末。

2.根据权利要求1所述的铟锡氧化物薄膜的回收方法，其特征在于，该待回收物为一彩色滤光基板，该铟锡氧化物薄膜为该彩色滤光基板上的一共通电极。

3.根据权利要求1所述的铟锡氧化物薄膜的回收方法，其特征在于，该待回收物为一主动元件阵列基板，该铟锡氧化物薄膜为该主动元件阵列基板上的多个像素电极。

4.根据权利要求1所述的铟锡氧化物薄膜的回收方法，其特征在于，该碱液的成分包括氢氧化钾水溶液、醚醇类溶剂、醇胺类溶剂、醇类溶剂以及接口活性剂。

5.根据权利要求1所述的铟锡氧化物薄膜的回收方法，其特征在于，该碱液的温度介于20℃至75℃之间。

6.根据权利要求1所述的铟锡氧化物薄膜的回收方法，其特征在于，该碱液与该铟锡氧化物薄膜接触的时间介于20秒至300秒之间。

7.根据权利要求1所述的铟锡氧化物薄膜的回收方法，其特征在于，在该碱液与该铟锡氧化物薄膜接触之后，更包括使一酸液与该铟锡氧化物薄膜接触，以自该待回收物上移除残留的该铟锡氧化物薄膜。

8.根据权利要求7所述的铟锡氧化物薄膜的回收方法，其特征在于，残留的该铟锡氧化物薄膜与该酸液反应并溶解于该酸液中。

9.根据权利要求7所述的铟锡氧化物薄膜的回收方法，其特征在于，该酸液的成分包括盐铁系溶液、王水或是硝酸系溶液。

10.一种基板的回收方法，其特征在于，包括：

提供一元件基板，该元件基板包括一基板、多个元件薄膜以及一铟锡氧化物薄膜，该铟锡氧化物薄膜覆盖于该基板与该些元件薄膜上；

使一碱液与该铟锡氧化物薄膜接触，以使该铟锡氧化物薄膜自该些元件薄膜剥离并混合于该碱液中，其中该碱液的成分包括氢氧化钾及/或氢氧化钠；

使一酸液与该铟锡氧化物薄膜接触，以自该基板上移除残留的该铟锡氧化物薄膜；以及

使用该碱液移除该些元件薄膜。

11.根据权利要求10所述的基板的回收方法，其特征在于，该碱液的成分包括氢氧化钾水溶液、醚醇类溶剂、醇胺类溶剂、醇类溶剂以及接口活性剂。

12.根据权利要求10所述的基板的回收方法，其特征在于，该碱液的温度介于20℃至75℃之间。

13.根据权利要求10所述的基板的回收方法，其特征在于，该碱液与该铟锡氧化物薄膜接触的时间介于20秒至300秒之间。

14.根据权利要求10所述的基板的回收方法，其特征在于，残留的该铟锡氧化物薄膜与该酸液反应并溶解于该酸液中。

15.根据权利要求10所述的基板的回收方法，其特征在于，该酸液的成分包括盐铁系溶液、王水或是硝酸系溶液。

16.根据权利要求10所述的基板的回收方法，其特征在于，该些元件薄膜包含多个彩色滤光薄膜或多个主动元件。

17.根据权利要求16所述的基板的回收方法，其特征在于，该铟锡氧化物薄膜自该些彩色滤光薄膜剥离的同时，部分的该些彩色滤光薄膜与该碱液反应而溶解于该碱液中。

18.根据权利要求10所述的基板的回收方法，其特征在于，更包括收集剥离的该铟锡氧化物薄膜与该碱液的混合物，并自该铟锡氧化物薄膜与该碱液的混合物中过滤而取得含铟的粉末。