[发明专利]图像擦除方法和图像擦除装置

权利要求书

1.图像擦除装置，其包括：

半导体激光器阵列，其中多个半导体激光光源是线性排列的；

宽度方向校准单元，其被提供在所述半导体激光器阵列的输出表面上，且配置来在宽度方向上校准从所述半导体激光器阵列发射出的激光束加宽以形成线性光束；和

长度方向光分布控制单元，其被配置来控制所述线性光束的长轴长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度并且在所述线性光束的长度方向获得均匀的光分布，

其中长轴长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度并且在其长度方向上具有均匀的光分布的所述线性光束被施加在热可逆记录介质上并加热所述热可逆记录介质，其中所述热可逆记录介质的透明度和色调的任何一个根据温度可逆地变化，以擦除在所述热可逆记录介质上记录的图像。

2.根据权利要求1所述的图像擦除装置，其进一步包括光束尺寸调节单元，其被配置来调节所述线性光束的长轴长度和所述线性光束的短轴长度中的至少一个，其中所述线性光束具有长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度的长轴和在所述线性光束的长度方向上均匀的光分布。

3.根据权利要求1所述的图像擦除装置，其中所述宽度方向校准单元是柱面透镜。

4.根据权利要求1所述的图像擦除装置，其中所述长度方向光分布控制单元是透镜阵列。

5.根据权利要求1所述的图像擦除装置，其中所述长度方向光分布控制单元是菲涅尔透镜。

6.根据权利要求1所述的图像擦除装置，其进一步包括扫描单元，其被配置来用所述线性光束在单轴方向上扫描所述热可逆记录介质，所述线性光束的长轴长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度，并且在所述线性光束的长度方向上具有均匀的光分布。

7.根据权利要求6所述的图像擦除装置，其中所述扫描单元是单轴检流计反射镜。

8.根据权利要求6所述的图像擦除装置，其中所述扫描单元是步进电动反射镜。

9.根据权利要求6所述的图像擦除装置，其中所述扫描单元是多面镜。

10.根据权利要求1所述的图像擦除装置，其进一步包括移动单元，其被配置来相对于所述线性光束移动所述热可逆记录介质，以使所述热可逆记录介质被所述线性光束扫描以擦除所述热可逆介质上记录的图像，所述线性光束的长轴长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度，并且在所述线性光束的长度方向上具有均匀的光分布。

11.根据权利要求10所述的图像擦除装置，其中所述热可逆记录介质附着在容器表面上，并且所述移动单元被配置来移动所述容器。

12.图像擦除方法，其包括：

在宽度方向上校准从半导体激光器阵列发射的激光束加宽以形成线性光束，在所述阵列中多个半导体激光光源是线性排列的；和

控制所述线性光束以具有长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度的长轴，并且在所述线性光束的长度方向上具有均匀的光分布，

其中长轴长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度并且在其长度方向上具有均匀的光分布的所述线性光束被施加在热可逆记录介质并加热所述热可逆记录介质，其中所述热可逆记录介质的透明度和色调的任何一个根据温度可逆地变化，以擦除在所述热可逆记录介质上记录的图像。

13.根据权利要求12所述的图像擦除方法，其进一步包括调节所述线性光束的长轴长度和所述线性光束的短轴长度中的至少一个，其中所述线性光束具有长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度的长轴，并且在所述线性光束的长度方向上具有均匀的光分布。

14.根据权利要求12所述的图像擦除方法，其进一步包括用所述线性光束在单轴方向上扫描所述热可逆记录介质，所述线性光束具有长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度的长轴，并且在所述线性光束的长度方向上具有均匀的光分布。

15.根据权利要求12所述的图像擦除方法，其中通过移动单元移动所述热可逆记录介质，以便用所述线性光束扫描所述热可逆介质，进行所述热可逆记录介质上记录的图像的擦除，所述线性光束具有长度大于所述半导体激光器阵列的发射部件的长轴长度的长轴，并且在所述线性光束的长度方向上具有均匀的光分布。