[发明专利]图像擦除方法和图像擦除装置有效

专利信息
申请号: 201010515607.5 申请日: 2010-10-19
公开(公告)号: CN102079175A 公开(公告)日: 2011-06-01
发明(设计)人: 石见知三;川原真哉;浅井敏明;堀田吉彦 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: B41J2/455 分类号: B41J2/455;B41M5/26
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 赵蓉民;张全信
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 图像 擦除 方法 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及能够擦除图像的图像擦除方法及图像擦除装置,所述图像是通过光学透镜将半导体激光器(LD)阵列发射出的光束转换为具有高度均一性的线性光束,并将该线性光束施加到热可逆记录介质上而被记录在热可逆记录介质上的,在所述阵列中多个半导体激光器(LD)呈线性排列。

背景技术

迄今为止每种图像都是通过接触方法在热可逆记录介质(下面可以称为“记录介质”或“介质”)上进行记录和擦除的,在接触方法中热可逆记录介质通过与热源接触而被加热。对于热源,在图像记录的情况下,一般使用热敏头,而在图像擦除情况下,一般使用热辊、陶瓷加热器或类似物。

这样的接触图像处理方法具有优势,因为当热可逆记录介质由柔性材料如膜和纸组成时,通过使用滚筒(platen)均匀地将热源压在热可逆记录介质上,图像可以被均匀记录和擦除,并且通过使用传统的热敏打印机的组件可以以便宜的成本制造图像记录装置和图像擦除装置。但是,当热可逆记录介质引入RF-ID标签时,如日本专利申请特许公开(JP-A)号2004-265247和日本专利(JP-B)号3998193中所述,热可逆记录介质的厚度变大并且其柔性变差。因此,为了均匀地将热源压在热可逆记录介质上,需要高压力。而且,在接触模式下,由于重复地记录和擦除,记录介质的表面被刮擦,其上形成不规则,并且一些部分并不与热源如热敏头或热模压接触。因此,记录介质可能未被均匀加热,这造成图像密度减小或擦除失败(日本专利(JP-B)号3161199和日本专利申请特许公开(JP-A)号09-30118)。

基于这样的事实:RF-ID标签能够在离热可逆记录介质一定的距离外以非接触方式读取和再写入内存信息,对于热可逆介质也有要求。要求是,从距热可逆记录介质一定距离外,图像被再写入这种热可逆记录介质上。为了满足这一要求,提出了一种使用激光的方法,作为其表面上有不规则时从距热可逆记录介质一定距离外记录和擦除热可逆记录介质上的每个图像的方法(参见JP-A号2000-136022)。正是通过这种方法,通过在用于货物流通线的运输集装箱(或容器)上使用热可逆记录介质,进行非接触记录。通过使用激光进行写入,以及通过使用热风、热水、红外线加热器等进行擦除。

作为这种使用激光的记录方法,提出了一种记录装置(激光打标机),其中热可逆记录介质被高输出功率的激光束照射,且照射部位可被控制。使用激光打标机用激光束照射热可逆记录介质,且记录介质中的光热转换材料吸收光以将其转换成热,这可以记录和擦除图像。一种使用激光的图像记录和擦除方法已被提出,其中使用了组合地包括无色颜料、可逆显色剂和各种光热转换材料的记录介质,并使用近红外激光束在其上进行记录(参见JP-A号11-151856)。

作为使用近红外激光束在可重写的热可逆记录介质上记录的方法,例如,有一种使用半导体激光器(LD)光源发射的激光束进行非接触重写的方法。

在使用半导体激光器进行非接触重写的激光记录装置(激光打标机)中,需要高输出功率的小环形光束以高速打印具有细线的小字。因此,如图1所示,为了将包括多个LD光源的LD阵列1发射的线性光束转换为环形光束,使用由专用的光学透镜系统11、光纤12等组成的光纤耦合LD。但是,对于越高输出功率的激光束,LD阵列光源的数目变得越大,专用的光学透镜系统11就越复杂。因此,装置的成本增加。另外,在光纤耦合LD中,安装透镜系统使LD光源不能被直接冷却。因此,光纤耦合LD具有差的冷却效率,且难于增加输出功率。此外,光纤耦合LD是复杂的光学系统,因此所有的激光束不能进入光纤,这造成效率下降并且难于增加输出功率。

在图像记录情况下,使用矢量法(vector method)用激光束照射要记录图像的部分,而在图像擦除情况下,热可逆记录介质全部被激光束照射。为了进行高速图像擦除,需要增加激光束的输出功率。

作为使用激光记录装置的图像擦除方法,如图2A至2D所示,提出了这样的图像擦除方法:其中通过平行叠加从典型激光打标机发射的环形光束进行扫描(参见日本专利(JP-B)号4263228、日本专利申请(JP-A)号2008-62506和2008-213439)。

但是,这些提出的方法具有的问题是,为了增加激光束的输出功率,装置成本高。

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