[发明专利]光学驱动装置及倾斜检测方法无效

专利信息
申请号: 201010517399.2 申请日: 2010-10-15
公开(公告)号: CN102044274A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 齐藤公博;久保毅;田部典宏 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: G11B7/135 分类号: G11B7/135;G11B7/09
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 驱动 装置 倾斜 检测 方法
【说明书】:

相关申请的交叉参考

本申请包含涉及于2009年10月23日向日本专利局提交的日本优先权专利申请第JP 2009-244389号中公开的主题,其全部内容结合于此作为参考。

技术领域

本发明涉及一种用于通过利用物镜将第一光聚焦在光学记录介质的记录层中的必要位置处形成标记来执行信息记录或再现所记录的信息的光学驱动装置以及这种光学驱动装置的倾斜检测方法,更具体地,涉及一种用于通过物镜将第二光聚焦在其中形成有光学记录介质的位置引导元件的反射膜上并使第二光的光斑位置能够根据聚焦在反射膜上的第二光的反射光跟随位置引导元件以控制物镜位置的光学驱动装置。

背景技术

作为用于通过照射光来记录/再现信号的光学记录介质,诸如压缩盘(CD)、数字多功能光盘(DVD)或蓝光光盘(BD)(注册商标)的所谓的光盘已经开始广泛使用。

关于目前以CD、DVD、BD等状态广泛使用的下一代光学记录介质,首先,本发明申请人提出了在日本未审查专利申请公开第2008-135144或2008-176902号中所描述的一种所谓的块记录(bulk recording)型光学记录介质。

这里,例如,块记录表示一种通过将激光束照射到至少具有覆盖层101和块层(记录层)102的光学记录介质(块型记录介质100),顺序改变聚焦位置以在块层102中执行多层记录来实现大的记录容量的技术。

在这样的块记录中,日本未审查专利申请公开第2008-135144号公开了一种被称为所谓的微全息方法的记录技术。

该微全息方法分为正型微全息方法和负型微全息方法,如图21A和图21B所示。

在微全息方法中,所谓的全息记录材料被用作块层102的记录介质。作为全息记录介质,例如光可聚合性光致聚合物等是众所周知的。

如图21A所示,正型微全息方法是一种将两个相对的光通量(光通量A和光通量B)聚焦在同一位置以形成微小干涉条纹(全息)并使用该微小干涉条纹作为记录标记的方法。

与正型微全息方法相反,图21B中所示的负型微全息方法是一种由激光束照射擦除预先形成的干涉条纹并使用该擦除的部分作为记录标记的方法。

图22A和图22B是示出了负型微全息方法的图示。

在负型微全息方法中,在执行记录操作之前,如图22A中所示,预先执行初始化过程以在块层102中形成干涉条纹。具体地,如图所示,相对地照射平行光的光通量C和D以在全部块层102中形成干涉条纹。

当初始化过程预先形成干涉条纹之后,如图22B所示,通过形成擦除标记执行信息记录。具体地,通过根据记录信息将激光束以聚焦状态照射在任意层位置,执行通过擦除标记的信息记录。

本发明申请人提出例如一种形成日本未审查专利申请公开第2008-176902号公开的孔隙(孔洞)作为记录标记的记录方法,作为与微全息方法不同的块记录方法。

孔隙记录方法是例如一种以相对高的功率将激光束照射到由记录材料(诸如光可聚合性光致聚合物)形成的块层102,从而在块层102中记录孔洞(孔隙)的方法。如日本未审查专利申请公开第2008-176902号所述,形成的孔洞部分具有与块层102的其他部分不同的折射率,从而其边界部分的光反射率增大。因此,孔洞部分用作记录标记,从而实现了通过形成孔洞标记进行信息记录。

在这样的孔隙记录方法中,由于未形成全息,因此由一侧的光照射完成记录。即,作为按照正型微全息方法,不必将两光通量聚焦在同一位置以形成记录标记。

此外,与负型微全息方法相比,正型微全息方法具有不执行初始化过程的优点。

虽然在日本未审查专利申请公开第2008-176902号中描述了一种在执行孔隙记录时的记录之前照射预固化光(pre-cure light)的实施例,然而即使当省略了预固化光的照射,仍可能进行孔隙记录。

然而,即使在块记录型(也被简称为块型)光学记录介质(其中提出以上多种记录方法)中,在例如形成多个反射膜的意义上,块型光学记录介质的记录层(块层)不具有明显的多层结构。即,在块层102中,不设置包含在一般多层光盘的每个记录层中的反射膜和引导凹槽。

因此,在图20中所示的块型记录介质100的结构中,在不形成标记的记录过程中不执行聚焦伺服或跟踪伺服。

因此,实际上,在块型记录介质100中,设置了成为具有图23中所示的引导凹槽的基准的反射表面(基准表面)。

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