[发明专利]工艺数据分析方法和系统

权利要求书

1.一种工艺数据分析方法，其特征在于，包括：

针对查询得到的工艺数据，进行自顶向下的逐级筛选，定位到分析对象；

设置所述分析对象的曲线属性；

依据所述曲线属性，绘制相应分析对象的曲线；

依据所述曲线，对相应分析对象进行分析。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述定位到分析对象的步骤为，针对查询得到的工艺数据，按照腔室到硅片到工艺过程参数的筛选顺序，定位到分析对象。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述定位到分析对象的步骤包括：

腔室定位步骤：识别当前分析对象所属的腔室，并依据所述查询工艺数据，获取所识别腔室的工艺数据；

硅片定位步骤：识别当前分析对象所属的硅片，并依据所识别腔室的工艺数据，获取所识别硅片的工艺数据；

参数定位步骤：识别当前分析对象所属的工艺过程参数，并依据所识别硅片的工艺数据，获取所识别工艺过程参数的工艺数据。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，还包括：

如果下一个分析对象与当前分析对象所属的腔室不同，则返回所述腔室定位步骤；

或者，如果下一个分析对象与当前分析对象所属的腔室相同，则返回所述硅片定位步骤；

或者，如果下一个分析对象与当前分析对象所属的腔室和硅片均相同，则返回所述参数定位步骤。

5.如权利要求3或4所述的方法，其特征在于，还包括：添加参数类型，其中，一个参数类型对应一个或多个工艺过程参数；

所述参数定位步骤包括：

识别当前分析对象所属的参数类型，并依据所识别硅片的工艺数据，获取所识别参数类型的工艺数据；

识别前分析对象所属的工艺过程参数，并依据所识别参数类型的工艺数据，获取所识别工艺过程参数的工艺数据。

6.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，所述曲线属性包括颜色、线宽、线型和/或曲线放大比例。

7.一种工艺数据分析系统，其特征在于，包括：

定位模块，用于针对查询得到的工艺数据，进行自顶向下的逐级筛选，定位到分析对象；

设置模块，用于设置所述分析对象的曲线属性；

绘制模块，用于依据所述曲线属性，绘制相应分析对象的曲线；

分析模块，用于依据所述曲线，对相应分析对象进行分析。

8.如权利要求7所述的系统，其特征在于，所述定位模块，具体用于针对查询得到的工艺数据，按照腔室到硅片到工艺过程参数的筛选顺序，定位到分析对象。

9.如权利要求8所述的系统，其特征在于，所述定位模块包括：

腔室定位单元，用于识别当前分析对象所属的腔室，并依据所述查询工艺数据，获取所识别腔室的工艺数据；

硅片定位单元，用于识别当前分析对象所属的硅片，并依据所识别腔室的工艺数据，获取所识别硅片的工艺数据；

参数定位单元，用于识别当前分析对象所属的工艺过程参数，并依据所识别硅片的工艺数据，获取所识别工艺过程参数的工艺数据。

10.如权利要求9所述的系统，其特征在于，所述定位模块还包括：

判断单元，用于针对下一个分析对象，如果其与当前分析对象所属的腔室不同，则通知所述腔室定位单元；或者，如果其与当前分析对象所属的腔室相同，则通知所述硅片定位单元；或者，如果其与当前分析对象所属的腔室和硅片均相同，则返回所述参数定位单元。

11.如权利要求9或10所述的系统，其特征在于，还包括：

添加模块，用于添加参数类型，其中，一个参数类型对应一个或多个工艺过程参数；

所述参数定位单元包括：

类型定位子单元，用于识别当前分析对象所属的参数类型，并依据所识别硅片的工艺数据，获取所识别参数类型的工艺数据；

参数定位子单元，用于识别前分析对象所属的工艺过程参数，并依据所识别参数类型的工艺数据，获取所识别工艺过程参数的工艺数据。

12.如权利要求7至10中任一项所述的系统，其特征在于，所述曲线属性包括颜色、线宽、线型和/或曲线放大比例。