[发明专利]彩膜基板的制造方法

权利要求书

1.一种彩膜基板的制造方法，包括在衬底基板上形成黑矩阵和至少两种颜色的彩色树脂图案的流程，其特征在于，形成每种颜色的彩色树脂图案的流程包括：

在形成黑矩阵的衬底基板上形成对应颜色的彩色树脂层；

采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案，所述掩膜版中透光区域的边缘对应于所述黑矩阵图案的范围内。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案之前，还包括：

在所述彩色树脂层表面涂覆负性光刻胶。

3.根据权利要求2所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案具体为：

采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵一侧对所述彩色树脂层进行曝光，并通过显影在所述彩色树脂层表面形成与彩色树脂图案对应的光刻胶图案；

对所述彩色树脂层进行刻蚀，形成所述彩色树脂图案；

剥离所述彩色树脂图案表面的负性光刻胶。

4.根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案具体为：

采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，并通过显影形成所述彩色树脂图案，所述彩色树脂为负性感光材料。

5.根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成黑矩阵的流程包括：

在衬底基板上涂覆一层黑色光刻胶；

采用掩膜版，从所述衬底基板靠近所述黑色光刻胶的一侧对所述黑色光刻胶进行曝光，并通过显影形成所述黑矩阵。

6.根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成黑矩阵具体包括：

在衬底基板上沉积一层黑矩阵材料；

在所述黑矩阵材料表面涂覆一层正性光刻胶；

采用掩膜版，从所述衬底基板面向所述黑矩阵材料一侧对所述黑矩阵材料进行曝光，并通过显影形成与黑矩阵图案对应的光刻胶图案，所述掩膜版中不透光区域与所述黑矩阵图案相对应；

对所述黑矩阵材料进行刻蚀，形成所述黑矩阵图案；

剥离所述黑矩阵图案表面的正性光刻胶。

7.根据权利要求1所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成黑矩阵具体包括：

在衬底基板上沉积一层黑矩阵材料；

在所述黑矩阵材料表面涂覆一层负性光刻胶；

采用掩膜版，从所述衬底基板面向所述黑矩阵材料一侧对所述黑矩阵材料进行曝光，并通过显影形成与黑矩阵图案对应的光刻胶图案，所述掩膜版中透光区域与所述黑矩阵图案相对应；

对所述黑矩阵材料进行刻蚀，形成所述黑矩阵图案；

剥离所述黑矩阵图案表面的负性光刻胶。