[发明专利]彩膜基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器的制造方法，尤其涉及一种彩膜基板的制造方法。

背景技术

液晶显示器是目前常用的平板显示器，液晶面板是液晶显示器中的重要部件，液晶面板包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，其间填充液晶。

现有的彩膜基板的制造方法，如图1所示，首先在衬底基板1上形成黑矩阵2，然后再在形成黑矩阵2的衬底基板1上涂覆一种颜色的彩色树脂层3，采用掩膜版4从彩色树脂层3的正上方对彩色树脂层3进行曝光，其中，掩膜版4的透光区域或者不透光区域与衬底基板1上需形成彩色树脂图案5的区域对应，形成该颜色的彩色树脂图案5。其他颜色的彩色树脂图案5也采用这种方法形成。

参见图2和图3，现有的彩膜基板的制造方法，由于曝光设备的误差，以及掩膜版存在变形的问题，使得掩膜版表面的图案与衬底基板上需形成彩色树脂图案的区域出现对位误差，从而导致彩色树脂图案与两相邻黑矩阵之间的重叠部分高度不对称，甚至出现漏光，彩膜基板表面不平整，进而影响了配向液的印刷以及阵列基板和彩膜基板的对盒效果。

发明内容

本发明提供一种彩膜基板的制造方法，以解决彩膜基板表面不平，甚至出现漏光的问题，改善配向液的印刷效果以及阵列基板和彩膜基板的对盒效果。

本发明提供一种彩膜基板的制造方法，包括在衬底基板上形成黑矩阵和至少两种颜色的彩色树脂图案的流程，形成每种颜色的彩色树脂图案的流程包括：

在形成黑矩阵的衬底基板上形成对应颜色的彩色树脂层；

采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案，所述掩膜版中透光区域的边缘对应于所述黑矩阵图案的范围内。

如上所述的彩膜基板的制造方法，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案之前，还包括：

在所述彩色树脂层表面涂覆负性光刻胶。

如上所述的彩膜基板的制造方法，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案具体为：

采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵一侧对所述彩色树脂层进行曝光，并通过显影在所述彩色树脂层表面形成与彩色树脂图案对应的光刻胶图案；

对所述彩色树脂层进行刻蚀，形成所述彩色树脂图案；

剥离所述彩色树脂图案表面的负性光刻胶。

如上所述的彩膜基板的制造方法，所述采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，形成所述彩色树脂图案具体为：

采用掩膜版，从所述衬底基板背离黑矩阵的一侧对所述彩色树脂层进行曝光，并通过显影形成所述彩色树脂图案，所述彩色树脂为负性感光材料。

如上所述的彩膜基板的制造方法，所述在衬底基板上形成黑矩阵的流程包括：

在衬底基板上涂覆一层黑色光刻胶；

采用掩膜版，从所述衬底基板靠近所述黑色光刻胶的一侧对所述黑色光刻胶进行曝光，并通过显影形成所述黑矩阵。

如上所述的彩膜基板的制造方法，所述在衬底基板上形成黑矩阵的流程包括：

在衬底基板上沉积一层黑矩阵材料；

在所述黑矩阵材料表面涂覆一层正性光刻胶；

采用掩膜版，从所述衬底基板面向所述黑矩阵材料一侧对所述黑矩阵材料进行曝光，并通过显影形成与黑矩阵图案对应的光刻胶图案，所述掩膜版中不透光区域与所述黑矩阵图案相对应；

对所述黑矩阵材料进行刻蚀，形成所述黑矩阵图案；

剥离所述黑矩阵图案表面的正性光刻胶。

如上所述的彩膜基板的制造方法，所述在衬底基板上形成黑矩阵的流程包括：

在衬底基板上沉积一层黑矩阵材料；

在所述黑矩阵材料表面涂覆一层负性光刻胶；

采用掩膜版，从所述衬底基板面向所述黑矩阵材料一侧对所述黑矩阵材料进行曝光，并通过显影形成与黑矩阵图案对应的光刻胶图案，所述掩膜版中透光区域与所述黑矩阵图案相对应；

对所述黑矩阵材料进行刻蚀，形成所述黑矩阵图案；

剥离所述黑矩阵图案表面的负性光刻胶。