[发明专利]镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，尤其设计一种镀膜装置。

背景技术

随着各种电子产品的普及应用，消费者的要求越来越高，除要求满足使用功能外，消费者对电子产品的外观、触摸质感等也有了新的要求。比如，要求产品外壳具有绚丽的色彩、金属质感、耐磨损等。利用反应式磁控溅射镀膜法对产品外壳进行镀膜加工，可使电子产品获得具有各种色彩的、高金属质感的多层膜外壳，满足目前消费者的需求。

传统的磁控溅镀装置基本都是采用平面对靶的方式，将承载靶材的平面靶座相对地设置于单一圆周料架的内侧与外侧。但是，在实际的镀膜加工过程，采用平面对靶的方式设置靶材时，易因相对的靶材距离较近而发生相互干扰，影响镀膜质量。此外，采用平面对靶的方式设置靶材存在靶材不易控制、利用率低等问题。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种易于实现的、可有效解决现有技术中存在的问题的镀膜装置。

一种镀膜装置，其包括一个镀膜腔体，及一个同心料架。所述同心料架设置于所述镀膜腔体内部，所述同心料架可以绕其自身的中心轴旋转。所述同心料架具有一个内圈料架，及一个围绕所述内圈料架且与所述内圈料架相连接的外圈料架。所述内圈料架的中央区域设置有至少一个柱状的内靶座，所述外圈料架的外围设置有多个柱状的外靶座，所述内靶座与所述外靶座均用于设置镀膜靶材。

相对于现有技术，本发明的镀膜装置具有如下优点：其一，采用同心设置的内圈料架与外圈料架，且分别在内圈料架的中央区域及外圈料架的外围设置柱状的靶座，可有效地降低设置于不同靶座的靶材之间相互干扰，保证镀膜质量。其二，采用柱状的靶座有利于减少不同靶材之间的相对面积，可进一步降低靶材之间相互干扰的可能。其三，采用柱状的靶座有利于通过旋转靶座来控制靶材，便于提高靶材的利用率。

附图说明

图1是本发明一实施例提供的镀膜装置的示意图，所述镀膜装置包括一个同心料架。

图2是图1所示的镀膜装置的俯视图。

图3是图1所示的同心料架的传动机构的局部示意图。

图4是图3所示的同心料架的工作原理图。

主要元件符号说明

镀膜腔体        10

同心料架        20

内圈料架        21

外圈料架        23

连接臂          25

内靶座          30

外靶座          40

传动机构        50

第一驱动齿轮    51

第二驱动齿轮    52

第一从动齿轮    53

第二从动齿轮    54

中间齿轮        55、56

驱动机构        60

驱动轴          61

镀膜装置        100

内圈安装架    211

内圈挂件杆    213

外圈安装架    231

外圈挂件杆    233

第一端        251

第二端        252

具体实施方式

下面将结合附图及实施例对本技术方案作进一步详细说明。

请一并参阅图1与图2，本发明一实施例提供一种镀膜装置100，其用于对待镀膜件进行镀膜加工，所述镀膜装置100包括一个镀膜腔体10，一个同心料架20，三个内靶座30，及六个外靶座40。

所述镀膜腔体10为真空腔体，其内部的真空环境通过与所述镀膜腔体10相连通的真空泵(图未示)获得。本实施例中，所述镀膜腔体10为筒状腔体。

所述同心料架20设置于所述镀膜腔体10内部，所述同心料架20可以绕其自身的中心轴旋转。所述同心料架20具有一个内圈料架21，一个外圈料架23，及两个连接臂25。本实施例中，所述同心料架20位于所述镀膜腔体10的中央区域，且所述同心料架20的中心轴与所述镀膜腔体10的中心轴同轴。所述内圈料架21与所述外圈料架23用于承载待镀膜件(图未示)，所述连接臂25用于连接所述内圈料架21与所述外圈料架23。