[发明专利]光罩及其制造方法

权利要求书

1.一种具有图案区域的光罩，其特征在于，

上述图案区域包括沿着第1方向而配置于奇数号的多个奇数列图案区域，以及沿着上述第1方向而配置于偶数号的多个偶数列图案区域，

至少一对邻接的上述奇数列图案区域与上述偶数列图案区域在上述第1方向的端部具有共通区域，该共通区域中具有相同图案，

上述图案区域还包括第1基准标记及第2基准标记；上述第1基准标记与至少1个上述奇数列图案区域或至少1个上述偶数列图案区域具有第1位置关系；上述第2基准标记与至少1个上述奇数列图案区域或至少1个上述偶数列图案区域具有第2位置关系。

2.根据权利要求1所述的具有图案区域的光罩，其特征在于：

上述共通区域分别形成于至少一对邻接的上述奇数列图案区域与上述偶数列图案区域的邻接侧。

3.根据权利要求1所述的具有图案区域的光罩，其特征在于：

上述共通区域分别形成于至少一对邻接的上述奇数列图案区域与上述偶数列图案区域的邻接侧的相反侧。

4.根据权利要求1所述的具有图案区域的光罩，其特征在于：

所谓上述第1位置关系，是指将至少1个上述第1基准标记的有关上述第1方向的坐标，配置于上述奇数列图案区域的有关上述第1方向的坐标范围内，

所谓上述第2位置关系，是指将至少1个上述第2基准标记的有关上述第1方向的坐标，配置于与上述第1基准标记具有上述第1位置关系的上述奇数列图案区域不同的上述奇数列图案区域的有关上述第1方向的坐标范围内。

5.根据权利要求1所述的具有图案区域的光罩，其特征在于：

所谓上述第1位置关系，是指将至少1个上述第1基准标记的有关上述第1方向的坐标，配置于上述奇数列图案区域的上述共通区域的有关上述第1方向的坐标范围内，

所谓上述第2位置关系，是指将至少1个上述第2基准标记的有关上述第1方向的坐标，配置于上述偶数列图案区域的上述共通区域的有关上述第1方向的坐标范围内。

6.根据权利要求1所述的具有图案区域的光罩，其特征在于：

至少一对上述奇数列图案区域中的一个上述奇数列图案区域与另一个上述奇数列图案区域在上述第1方向的第1配置间隔，

与至少一对上述偶数列图案区域中的一个上述偶数列图案区域与另一个上述偶数列图案区域在上述第1方向的第2配置间隔大致相等。

7.根据权利要求6所述的具有图案区域的光罩，其特征在于：

上述图案区域是用以将图案经由具有放大倍率的多个投影光学系统而曝光于基板上的原始图案，

上述第1配置间隔设定为与上述多个投影光学系统的光罩侧的视场在上述第1方向上的间隔相对应。

8.根据权利要求1所述的具有图案区域的光罩，其特征在于：

在上述共通区域与上述图案区域的周围，具有遮光带。

9.一种光罩的制造方法，是指权利要求1至8中任一项所述的光罩的制造方法，其特征在于，包括下述步骤：

对与形成于上述光罩上的所有图案对应的所有图案数据在上述第1方向上进行分割的步骤；

在分割后的至少1个图案数据的上述第1方向的端部，添加与上述共通区域对应的图案数据，制作多个与分割后的各图案数据对应的描绘数据的步骤；

基于上述多个描绘数据，于上述光罩描绘图案的步骤；以及

制作基准标记，使该基准标记与所描绘的各图案的至少1个图案具有特定的位置关系的步骤。