[发明专利]光罩及其制造方法

说明书

本发明是原申请号200780005564.2，申请日为2007年2月6日，发明名称“投影光学系统、曝光装置、曝光方法、显示器的制造方法、光罩以及光罩的制造方法”的分案申请

技术领域

本发明是关于光罩以及光罩的制造方法。

背景技术

例如在制造半导体组件或液晶显示组件等时，使用的投影曝光装置是将光罩(光栅、光屏蔽(photomask)等)图案经由投影光学系统而投影于涂布有抗蚀(resist)剂的感光板(plate)(玻璃板或半导体晶圆等)上。先前多使用的投影曝光装置(stepper，步进机)是以步进重复(step and repeat)的方式，将各个光栅图案于感光板上的各曝光照射(shot)区域一并曝光。近年来，提出一种步进扫描(step and scan)方式的投影曝光装置，其并非使用1个较大的投影光学系统，取而代之是将具有等倍的倍率的较小的多个部分投影光学系统沿着扫描方向以特定间隔而配置成多列，一边扫描光罩及感光板，一边利用各部分投影光学系统，将各个光罩图案于感光板上曝光(参照日本专利申请平成5-161588号公报)。

发明内容

然而近年来，感光板日益大型化，已开始使用超过2m见方的感光板。因此，当使用上述步进扫描方式的曝光装置而于大型感光板上进行曝光时，由于部分投影光学系统具有等倍的倍率，因而光罩亦需大型化。又因必须维持光罩基板的平面性，所以光罩愈大型化，则成本愈高。而且，为了形成通常的TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)部，必须具有4～5层的光罩，因此需要很大的成本。

本发明的目的在于提供一种包括具有放大倍率的投影光学系统的曝光装置中所使用的光罩及其制造方法。

根据本发明的实施例之一，提供一种具有图案区域的光罩，其特征在于，图案区域包括沿着第1方向而配置于奇数号的多个奇数列图案区域，以及沿着第1方向而配置于偶数号的多个偶数列图案区域，至少一对邻接的奇数列图案区域与偶数列图案区域在第1方向的端部具有共通区域，该共通区域中具有相同图案。图案区域还包括第1基准标记及第2基准标记；第1基准标记与至少1个奇数列图案区域或至少1个偶数列图案区域具有第1位置关系；第2基准标记与至少1个奇数列图案区域或至少1个偶数列图案区域具有第2位置关系。

又，根据本发明的实施例之一，提供一种光罩的制造方法，其特征在于，包括下述步骤：将与形成于上述光罩上的所有图案对应的所有图案数据在第1方向上进行分割的步骤；在分割后的至少1个图案数据的第1方向的端部，添加与共通区域对应的图案数据，制作多个与分割后的各图案数据对应的描绘数据的步骤；使用上述多个描绘数据，于上述光罩上描绘图案的步骤；以及制作基准标记，使该基准标记与所描绘的各图案的至少1个图案具有特定的位置关系的步骤。

附图说明

图1是第1实施例的投影光学系统的结构图。

图2是第2实施例的投影光学系统的结构图。

图3是第3实施例的投影光学系统的结构图。

图4是第4实施例的曝光装置的结构图。

图5是第4实施例的曝光装置的投影光学系统的配置图。

图6是用以说明一种曝光方法，该曝光方法使用了第4实施例的曝光装置。

图7是用以说明一种曝光方法，该曝光方法使用了第4实施例的曝光装置。

图8是用以说明一种曝光方法，该曝光方法使用了第4实施例的曝光装置。

图9是用以说明一种曝光方法，该曝光方法使用了第4实施例的曝光装置。

图10是用以说明一种光罩的结构，该光罩使用于实施例的包括形成正立像的投影光学系统的曝光装置中。

图11是用以说明一种光罩的结构，该光罩使用于实施例的包括形成倒立像的投影光学系统的曝光装置中。

图12表示将实施例的光罩的图案曝光转印于感光板上的状态图。

图13是用以说明一种光罩的结构，该光罩使用于实施例的包括形成正立像的投影光学系统的曝光装置中。

图14是用以说明一种光罩的结构，该光罩使用于实施例的包括形成倒立像的投影光学系统的曝光装置中。

图15是用以说明一种光罩的结构，该光罩使用于实施例的包括形成正立像的投影光学系统的曝光装置中。

图16是用以说明一种光罩的结构，该光罩使用于实施例的包括形成倒立像的投影光学系统的曝光装置中。

图17是表示实施例的基准标记的形状。

图18是用以说明实施例的光罩的制造方法。

图19是用以说明实施例的光罩的制造方法。