[发明专利]日用瓷用青釉无效
| 申请号： | 201010523546.7 | 申请日： | 2010-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN102060571A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 张垠;朱建萍 | 申请（专利权）人： | 南京工业大学 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210009 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 日用瓷 用青釉 | ||
1.一种日用瓷用青釉，其特征在于，该青釉的化学组成重量百分比为：SiO2 65.0～72.0％、Al2O3 10.5～11.8％、Fe2O3 0.5～1.5％、TiO2 0.0～0.5％、CaO 8.0～14.0％、MgO 0.0～2.0％、K2O 4.0～6.0％，Na2O 1.0～3.0％。
2.根据权利要求1所叙述的日用瓷用青釉，其特征在于其原料组分及重量百分比组成为：石英12.0～19.0％、长石58.0～65.0％、二灰10.0～15.0％、煅烧滑石0.0～4.0％、紫金土5.0～12.0％。
3.根据权利要求1或2所叙述的日用瓷用青釉，其特征在于化学组成中氧化亚铁是通过紫金土引入，并在还原条件下转化为氧化亚铁，原料重量百分比组成中紫金土含量为5.0-12.0％。
4.一种青釉制品的制备方法包括制坯、施釉、烧成，其特征在于烧成过程的烧成气氛依次为氧化气氛、还原气氛、氧化气氛。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于烧成气氛控制的三个温度区依次为：室温～960℃氧化气氛、960℃～1150℃强还原气氛，1150℃～1270℃弱还原气氛，1270℃～常温自然冷却。
6.根据权利要求4或5所述的方法，青釉制品的热处理条件为1210～1270℃，5-8h烧成。
7.根据权利要求4所述的方法，其特征在于制坯的瓷坯重量百分比组成为瓷石63.2％，高岭土36.8％。
8.根据权利要求4所述的方法，其特征在于坯釉烧成为一次烧成。
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