[发明专利]日用瓷用青釉无效
申请号: | 201010523546.7 | 申请日: | 2010-10-29 |
公开(公告)号: | CN102060571A | 公开(公告)日: | 2011-05-18 |
发明(设计)人: | 张垠;朱建萍 | 申请(专利权)人: | 南京工业大学 |
主分类号: | C04B41/86 | 分类号: | C04B41/86 |
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地址: | 210009 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 日用瓷 用青釉 | ||
1.一种日用瓷用青釉,其特征在于,该青釉的化学组成重量百分比为:SiO2 65.0~72.0%、Al2O3 10.5~11.8%、Fe2O3 0.5~1.5%、TiO2 0.0~0.5%、CaO 8.0~14.0%、MgO 0.0~2.0%、K2O 4.0~6.0%,Na2O 1.0~3.0%。
2.根据权利要求1所叙述的日用瓷用青釉,其特征在于其原料组分及重量百分比组成为:石英12.0~19.0%、长石58.0~65.0%、二灰10.0~15.0%、煅烧滑石0.0~4.0%、紫金土5.0~12.0%。
3.根据权利要求1或2所叙述的日用瓷用青釉,其特征在于化学组成中氧化亚铁是通过紫金土引入,并在还原条件下转化为氧化亚铁,原料重量百分比组成中紫金土含量为5.0-12.0%。
4.一种青釉制品的制备方法包括制坯、施釉、烧成,其特征在于烧成过程的烧成气氛依次为氧化气氛、还原气氛、氧化气氛。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于烧成气氛控制的三个温度区依次为:室温~960℃氧化气氛、960℃~1150℃强还原气氛,1150℃~1270℃弱还原气氛,1270℃~常温自然冷却。
6.根据权利要求4或5所述的方法,青釉制品的热处理条件为1210~1270℃,5-8h烧成。
7.根据权利要求4所述的方法,其特征在于制坯的瓷坯重量百分比组成为瓷石63.2%,高岭土36.8%。
8.根据权利要求4所述的方法,其特征在于坯釉烧成为一次烧成。
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