[发明专利]液晶取向层的制作方法有效

专利信息
申请号: 201010528563.X 申请日: 2008-03-21
公开(公告)号: CN102033361A 公开(公告)日: 2011-04-27
发明(设计)人: 路林林 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1337 分类号: G02F1/1337;C23C14/34;C23C14/58;C23C16/455;C23C16/56
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 刘芳
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 液晶 取向 制作方法
【说明书】:

本申请是(申请号为:200810102480.7,申请日为:2008-03-21,发明名称为:液晶取向层的制作方法)的分案申请。

技术领域

本发明涉及液晶显示器技术,特别涉及一种液晶取向层的制作方法。

背景技术

液晶显示器除其它组成部分如偏光板、玻璃基板外,还包括一个液晶层,该液晶层的取向行为决定了所述液晶显示器的大多数光学特性,而这种取向由与该液晶层接触的取向层决定,所述取向层也称为液晶取向层。该液晶取向层为接近于液晶层表面的液晶分子提供一个预倾角度,使液晶分子能够在其表面上沿特定的方向取向即排列。

目前,液晶取向层的一般制作过程是:

(1)先在液晶显示器的上、下基板上均涂覆取向液。如图1所示,常见的取向液涂覆工艺采用转印方式,取向液通过喷嘴110喷洒到均液辊120上,在均液辊120和压液辊130相对转动的作用下,取向液被均匀地压成一定厚度,之后,随着印刷辊140的转动,均液辊120上的取向液被均匀地涂在印刷辊140表面覆盖的橡胶转印板150上。当玻璃基板160进入设备后,载有玻璃基板160的设备基台向前平移,而印刷辊140同步转动,从而橡胶转印板150上的取向液就被涂覆在玻璃基板160表面,从而完成了取向液的涂覆过程,在玻璃基板160上形成取向膜。

(2)然后对涂覆有取向液的上、下基板进行定向摩擦,以通过摩擦织物和基板之间的摩擦作用获得取向槽。如图2所示,传统的取向槽形成采用定向摩擦方式,摩擦织物170被粘贴在摩擦辊180表面,摩擦辊180的旋转带动摩擦织物170的运转,当涂覆有取向液的玻璃基板160进入设备后,基台承载玻璃基板160向前平移,摩擦织物170和玻璃基板160接触后,基台继续向前平移,摩擦辊180带动摩擦织物170高速自转,从而在玻璃基板160表面的取向液上摩擦出一系列的凹槽,即形成取向槽。为消除由摩擦而产生的静电通常情况下,还要进行去静电处理,至此即在玻璃基板160上形成了液晶取向层。

在上述制作过程中,存在以下问题:

(1)由于摩擦工艺中是以摩擦织物与玻璃基板摩擦形成取向槽,而摩擦织布的表面状态难以控制,容易导致取向槽的取向不均,从而导致液晶分子的预倾角度也不一致,而液晶分子的预倾角度对液晶显示器的显示特性非常重要;

(2)摩擦织物和玻璃基板的摩擦会带来摩擦异物及各种画面品质不良(mura)的问题,这些问题均会影响液晶显示器的显示特性;

(3)上述制作过程中,取向膜是由液态的取向液形成,因而需要对其进行固化处理,具体需要经过预固化及主固化两个流程,耗时比较长。

针对该制作过程中存在的取向不均、摩擦异物及mura等问题,业内人士提供了诸多的解决方法,例如中国专利申请号为03142948.3、200310114974.4、200510067240.4的申请文件中分别提到了一些解决方法,但这些方法只是在原有设备或工艺的基础上进行简单的改良,而不能完全解决传统技术中的问题,甚至会增加工艺流程,进而增加制作成本。

发明内容

有鉴于此,本发明的主要目的在于提供一种液晶取向层的制作方法,使液晶取向层的取向更一致,进而提高液晶显示器的显示品质;并且,可降低制造成本。

为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:

一种液晶取向层的制作方法,其包括以下步骤:

(1)设置沉积仓,在沉积仓的一侧设有玻璃基板,在沉积仓的另一侧设有气体分配器;

(2)将所述沉积仓抽至真空状态;

(3)加热玻璃基板至所需温度;

(4)向所述沉积仓内注入碳氢气体及惰性气体;

(5)对所述玻璃基板和气体分配器施加高频电压,所述碳氢气体及惰性气体在电场作用及一定气体压力条件下反应,在所述玻璃基板的表面形成取向膜;所述气体压力为50×102~500×102Pa;

(6)采用与所述玻璃基板具有一定相对角度和斜偏角度的离子枪,对所述玻璃基板表面的取向膜进行离子轰击,在取向膜上形成取向槽,从而形成液晶取向层;所述相对角度为离子轰击形成的取向槽相对玻璃基板水平方向上的偏移角度,所述斜偏角度为预期要求的液晶分子的预倾角度。

优选的,步骤(1)中,所述玻璃基板设在沉积仓的阳极侧,所述气体分配器设在沉积仓的阴极侧。

步骤(2)中,所述真空状态的真空度为10-6~10-7Torr。

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