[发明专利]基板检查装置及其测定运用系统

权利要求书

1.一种基板检查装置的测定运用系统，

一面使基板从上游作业线向下游作业线依次移动，

一面使包括投光系统及光接收系统的光学系统向与移动过程中的基板正交的方向移动，照射检查光并接收来自所述基板的反射光或散射光，

根据所接收的来自所述基板的反射光或散射光来检查所述基板的缺陷，并按照预先设定的测定模式来显示所述缺陷，

其特征在于所述测定模式包括：

正常测定模式，对所述依次移动的所述玻璃基板连续执行如下处理，即，以使移动所述光学系统来对所述基板扫描一次的测定的测定区域针对每个基板而不重叠的方式，一面使所述光学系统移位一面扫描相当于一块基板的测定区域；

一次映射测定模式，在如下时间点结束检查，即，以使移动所述光学系统来对所述基板扫描一次的测定的测定区域针对所述每个基板而不重叠的方式，一面使所述光学系统移位一面扫描相当于所述一块基板的测定区域时的时间点；以及

排程测定模式，在指定的时刻执行所述一次映射测定模式的检查；

将各所述测定模式中每次扫描及所述每个基板中的两个系统的检查结果显示于显示画面。

2.根据权利要求1所述的基板检查装置的测定运用系统，其特征在于：

所述测定模式还包括；静止测定模式，针对通过的玻璃基板来固定扫描位置而对同一部位进行测定；单次测定模式，仅由一次扫描来实施测定；以及校正测定模式，使所述光学系统撤回到校正用位置，且测定校正用基板，从而校正光学系统的调整参数。

3.一种基板检查装置，一面使基板从上游作业线向下游作业线依次移动，

一面使包括投光系统及光接收系统的光学系统向与移动过程中的基板正交的方向移动，照射检查光并接收来自所述基板的反射光或散射光，

根据所接收的来自所述基板的反射光或散射光来检查所述基板的缺陷，并按照预先设定的测定模式来显示所述缺陷，

其特征在于所述测定模式包括：

正常测定模式，对所述依次移动的所述玻璃基板连续执行如下处理，即，以使移动所述光学系统来对所述基板扫描一次的测定的测定区域针对每个基板而不重叠的方式，一面使所述光学系统移位一面扫描相当于一块基板的测定区域；

一次映射测定模式，在如下时间点结束检查，即，以使移动所述光学系统来对所述基板扫描一次的测定的测定区域针对所述每个基板而不重叠的方式，一面使所述光学系统移位，一面扫描相当于所述一块基板的测定区域时的时间点；以及

排程测定模式，在指定的时刻执行所述一次映射测定模式的检查；

将各所述测定模式中每次扫描及所述每个基板中的两个系统的检查结果显示于显示画面。

4.根据权利要求3所述的基板检查装置，其特征在于：

所述测定模式还包括：静止测定模式，针对通过的玻璃基板来固定扫描位置而对同一部位进行测定；单次测定模式，仅由一次扫描来实施测定；以及校正测定模式，使所述光学系统撤回到校正用位置，且测定校正用基板，从而校正光学系统的调整参数。