[发明专利]基板检查装置及其测定运用系统无效

专利信息
申请号: 201010533664.6 申请日: 2010-10-29
公开(公告)号: CN102062737A 公开(公告)日: 2011-05-18
发明(设计)人: 饭塚学;常盘弘二 申请(专利权)人: 株式会社日立高科技
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88;G01N21/956
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 检查 装置 及其 测定 运用 系统
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种用来在生产线(manufacturing line)上检查制造显示用面板等时所使用的玻璃基板或塑料基板等的缺陷的基板检查装置及其测定运用系统。

背景技术

用作显示用面板(panel)的液晶显示装置的薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)基板或彩色滤光片(color filter)基板、等离子显示面板用基板、有机电致发光(Electro Luminescence,EL)显示面板用基板等的制造,是利用光刻(photolithography)技术,在玻璃基板或塑料基板等上形成图案而进行。这种情况下,若基板上存在伤痕或异物等的缺陷,则不会良好地形成图案,从而引起不良。所以,使用基板检查装置来检查基板的伤痕或异物等的缺陷。

基板检查装置向基板照射激光光束等的检查光,并接收来自基板的反射光或散射光,从而检测基板的伤痕或异物等的缺陷。由于是利用检查光来扫描基板,所以检查整个基板会花费颇多时间。因此,以往在玻璃基板或塑料基板等的生产线上,或者使用所述多种基板等的显示用面板基板的生产线上,难以实时(real time)地检查基板缺陷。所以,如专利文献1所示,提出了如下方法:利用相机以便在线上(in-line)扫描每个玻璃基板,将扫描后的一部分单位区域所对应的颗粒信息(particle information)数据化,并以统计的数值来显示各玻璃基板的各个整个区域所对应的颗粒信息,借此来测定整个玻璃基板的颗粒信息。

[以往技术文献]

[专利文献]

专利文献1:日本专利特开2005-164558号公报

以往典型的异物检查装置大多是在生产线之外以个别独立的形式加以运用,在进行检查测定时,必须从生产线抽出玻璃基板,使用搬送装置等将其投入到检查装置中进行检查。一般来说会检查玻璃基板的整个表面,搬送、检查动作及检查处理相关的运算等需要很多时间,且就必须从生产线暂时抽出玻璃基板此点而言,从运行管理面考虑缺乏效率。此外,在测定玻璃基板内的局部位置时,以往的检查装置也必须特意检查整个表面,就此点而言结果也是浪费时间。

由此可见,上述现有的基板检查装置在结构与使用上,显然仍存在有不便与缺陷,而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般产品又没有适切结构能够解决上述问题,此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新型结构的基板检查装置及其测定运用系统,实属当前重要研发课题之一,亦成为当前业界极需改进的目标。

发明内容

本发明的目的在于,克服现有的基板检查装置存在的缺陷,而提供一种新型结构的基板检查装置及其测定运用系统,所要解决的技术问题是使基板整个表面的检查与原本相比可显示基板内的局部检查且相对于生产线上的流动的玻璃不会发生延迟。

本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。为达到上述目的,依据本发明的基板检查装置的测定运用系统的第一特征在于:一面使基板从上游作业线向下游作业线依次移动,一面使包括投光系统及光接收系统的光学系统向与移动过程中的基板正交的方向移动,照射检查光并接收来自所述基板的反射光或散射光,根据所接收的来自所述基板的反射光或散射光来检查所述基板的缺陷,并按照预先设定的测定模式来显示所述缺陷,所述测定模式包括:正常测定模式,对所述依次移动的所述玻璃基板连续执行如下处理,即,以使移动所述光学系统来对所述基板扫描一次的测定的测定区域针对每个基板而不重叠的方式,一面使所述光学系统移位(shift)一面扫描相当于一块基板的测定区域;一次映射(one map)测定模式,在如下时间点结束检查,即,以使移动所述光学系统来对所述基板扫描一次的测定的测定区域针对所述每个基板而不重叠的方式,一面使所述光学系统移位一面扫描相当于所述一块基板的测定区域时的时间点;以及排程(schedule)测定模式,在指定的时刻执行所述一次映射测定模式的检查;将各所述测定模式中每次扫描及所述每个基板的两个系统的检查结果显示于显示画面。

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