[发明专利]新型透明OLED显示屏及其制造方法

权利要求书

1.一种新型透明OLED显示屏，包括基板玻璃、设置在基板玻璃上的阳极、有机层、阴极、钝化层、绝缘层，其特征在于，所述阴极包括第一层阴极及第二层阴极，所述第一层阴极至少覆盖整个发光区，所述第二层阴极与第一层阴极连接，并覆盖发光区的边缘和非发光区。

2.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述第一层阴极的厚度典型值为50A～500A。

3.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述第一层阴极还覆盖非发光区，所述绝缘层下部设有若干空腔，所述空腔中设有阴极搭接块，处于非发光区的第一层阴极在绝缘层范围内与所述阴极搭接块连接。

4.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述第二层阴极的厚度典型值为300A～1500A。

5.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，处于发光区的第二层阴极，其大小占一个像素大小的1/5～1/14。

6.根据权利要求1所述的新型透明OLED显示屏，其特征在于，所述绝缘层下部设有若干空腔，所述空腔中设有阴极搭接块，处于所述非发光区的第二阴极层在绝缘层范围内与所述阴极搭接块连接。

7.一种新型透明OLED显示屏的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

在准备好的基板玻璃上依次制备阳极、有机层、第一层阴极、第二层阴极、钝化层；其中，制备的第一层阴极至少覆盖整个发光区，制备的第二层阴极要覆盖发光区的边缘及非发光区。

8.如权利要求7所述的新型透明OLED显示屏的制作方法，其特征在于，所述第一层阴极的厚度典型值为50A～500A，所述第二层阴极的厚度典型值为300A～1500A。

9.如权利要求7所述的新型透明OLED显示屏的制作方法，其特征在于，处于发光区的第二层阴极，其大小制作为占一个像素大小的1/5～1/14。