[发明专利]一种清洗装置及清洗方法

权利要求书

1.一种清洗装置，用于清洗晶圆，其特征在于，包括：

晶圆吸片台部，用于吸附晶圆；

喷头部，位于所述晶圆吸片台部的上方，包括：

至少一个第一接收部，用于接收从第一通道输入的清洗液；

至少一个第二接收部，用于接收从第二通道输入的压缩气体；

混合部，用于将所述输入的清洗液和压缩气体相混合后喷出，以清洗所述晶圆吸片台部吸附的晶圆。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，

所述第一接收部包括：

第一减压阀，用于对所述输入的清洗液进行减压处理，所述减压处理后的清洗液输入所述混合部；

所述第二接收部包括：

过滤部，用于对所述输入的压缩气体进行过滤；

第二减压阀，用于对过滤后的压缩气体进行减压处理，所述减压处理后的压缩气体输入所述混合部。

3.根据权利要求1或2所述的清洗装置，其特征在于，所述混合部为：二流体喷嘴。

4.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，还包括：

第一驱动部，用于在清洗时，驱动所述晶圆吸片台部旋转；

第二驱动部，用于在清洗时，驱动所述喷头部作往复运动。

5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，

所述喷头部在所述第二驱动部的驱动下绕预定的中心作往复旋转运动，且所述混合部的运动路径通过所述晶圆吸片台部的旋转中心。

6.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗液为去离子水。

7.一种利用权利要求1的清洗装置清洗晶圆的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：

接收从第一通道输入的清洗液和从第二通道输入的压缩气体；

将所述清洗液和压缩气体混合后喷出，以清洗晶圆吸片台部吸附的晶圆。

8.根据权利要求7所述的清洗方法，其特征在于，在接收到所述压缩气体之后，混合所述清洗液和压缩气体之前，还包括：

对所述压缩气体过滤；及，

对所述过滤后的气体进行减压处理。

9.根据权利要求7所述的清洗方法，其特征在于，在接收到所述清洗液之后，混合所述清洗液和压缩气体之前，还包括：

对所述清洗液进行减压处理。

10.根据权利要求7-9中任一项所述的清洗方法，其特征在于，清洗晶圆吸片台部吸附的晶圆时，晶圆吸片台部旋转，喷头部作往复运动，混合部的运动路径通过晶圆吸片台部的旋转中心。