[发明专利]基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201010535057.3 申请日: 2010-11-04
公开(公告)号: CN102054664A 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: 南田纯也;上田一成 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,其特征在于,包括:

基板搬入搬出部,其用于交接被收容于搬运器的基板;

基板输送室,其经由基板搬入搬出口与上述基板搬入搬出部连通;

多个基板处理室,其沿着上述基板输送室配置;

基板输送装置,其收容在上述基板输送室的内部,用于在上述基板搬入搬出部和上述基板处理室之间输送上述基板;

清洁空气流动部件,其用于使清洁空气沿着上述基板输送室流动。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,

上述清洁空气流动部件在上述基板输送室内形成横向的清洁空气的气流。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置,其特征在于,

上述清洁空气流动部件由设于上述基板输送室的一端侧的侧壁上的供气单元和设于上述基板输送室的另一端侧的侧壁上的排气单元形成。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,

上述供气单元设于上述基板输送室的上述基板搬入搬出部侧的侧壁上。

5.根据权利要求3或4所述的基板处理装置,其特征在于,

上述供气单元设于比上述基板搬入搬出口靠上方的位置。

6.根据权利要求3~5中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

在上述基板输送室的呈密闭状地分隔上述基板输送室和上述基板交接室之间的隔壁上仅形成有上述供气单元和上述基板搬入搬出口。

7.根据权利要求3~6中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

上述供气单元被形成于在利用上述基板输送装置输送基板的基板输送区域的范围内形成横向的清洁空气的气流的位置。

8.根据权利要求2~7中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

上述基板输送室在与利用上述基板输送装置输送基板的基板输送区域相对应的高度的范围内形成有上述基板搬入搬出口。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

上述基板搬入搬出部设有用于在内部使清洁空气从上方朝向下方流动的清洁空气流动部件,并且使上述基板搬入搬出部内的压力高于上述基板输送室的室内的压力。

10.根据权利要求1~9中任一项所述的基板处理装置,其特征在于,

上述多个基板处理室和上述基板输送室上下层叠地设置有多层,分别在各层的基板输送室中设有上述清洁空气流动部件。

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