[发明专利]基板处理装置

说明书

技术领域

本发明例如涉及对半导体晶圆等基板进行清洗处理等处理的基板处理装置。

背景技术

在半导体零件的制造工艺、平板显示器(FPD)的制造工艺中，为了对作为被处理基板的半导体晶圆、玻璃基板供给处理液而进行清洗处理、蚀刻处理，多使用基板处理装置。

该基板处理装置形成有沿着矩形箱型形状的壳体的中央部延伸的基板输送室，并且沿着基板输送室在左右侧方并列形成有多个基板处理室。

而且，基板处理装置使用设于基板输送室的内部的基板输送装置将基板搬入各基板处理室，在各基板处理室中进行基板的各种处理，用基板输送装置将处理后的基板从各基板处理室搬出。

在这样的基板处理装置中，为了将内部的空气始终保持为清洁的状态，作为清洁空气流动部件，在基板输送室的顶部安装风机过滤单元(fan filter unit)，并且在底部安装排气单元。

而且，在该基板处理装置中，从风机过滤单元向基板输送室的内部吸入清洁空气，并且从排气单元排出，在基板输送室的内部使清洁空气从上方朝向下方流动(例如参照专利文献1)。

专利文献1：日本特开2008-34490号公报

可是，在上述以往的基板处理装置中，以后为了提高处理能力，在增加被设置于基板输送室的侧方的基板处理室的个数的情况下，由设于基板输送室的风机过滤单元、排气单元构成的清洁空气流动部件随之大型化，有可能产生消耗能量的增大、制造成本的增大。

此外，在上下多层层叠地配置有基板处理室、基板输送室的情况下，清洁空气流动部件的构造复杂化，有可能产生装置的大型化、制造成本的增大。

发明内容

因此，在本发明中，在基板处理装置中包括：基板搬入搬出部，其用于交接被收容于搬运器的基板；基板输送室，其经由基板搬入搬出口与上述基板搬入搬出部连通；多个基板处理室，其沿着上述基板输送室配置；基板输送装置，其收容在上述基板输送室的内部，用于在上述基板搬入搬出部和上述基板处理室之间输送上述基板；清洁空气流动部件，其用于使清洁空气沿着上述基板输送室流动。

此外，上述清洁空气流动部件在上述基板输送室内形成横向的清洁空气的气流。

此外，上述清洁空气流动部件由设于上述基板输送室的一端侧的侧壁上的供气单元和设于上述基板输送室的另一端侧的侧壁上的排气单元形成。

此外，上述供气单元设于上述基板输送室的上述基板搬入搬出部侧的侧壁上。

此外，上述供气单元设于比上述基板搬入搬出口靠上方的位置。

此外，仅在上述基板输送室的呈密闭状地分隔上述基板输送室和上述基板交接室之间的隔壁上形成有上述供气单元和上述基板搬入搬出口。

此外，上述供气单元被形成于在利用上述基板输送装置输送基板的基板输送区域的范围内形成横向的清洁空气的气流的位置。

此外，上述基板输送室在与利用上述基板输送装置输送基板的基板输送区域相对应的高度的范围内形成有上述基板搬入搬出口。

此外，上述基板搬入搬出部设有用于使清洁空气在内部从上方朝向下方流动的清洁空气流动部件，并且使上述基板搬入搬出部内的压力高于上述基板输送室的室内的压力。

此外，上述多个基板处理室和上述基板输送室上下层叠地设置有多层，分别在各层的基板输送室中设有上述清洁空气流动部件。

此外，在本发明中，在沿着基板输送室配置有多个基板处理室的基板处理装置中，由于设有使清洁空气在基板输送室的内部沿着基板输送装置的移动方向流动的清洁空气流动部件，所以能谋求清洁空气流动部件的小型化，从而能降低基板处理装置的制造成本、消耗能量。

附图说明

图1是表示基板处理装置的俯视图。

图2是该基板处理装置的侧面剖视图。

图3是表示基板输送室的内部的清洁空气的气流的俯视说明图。

图4是表示该基板输送室的内部的清洁空气的气流的侧面剖视说明图。

图5是表示基板输送区域的说明图。

具体实施方式

以下，一边参照附图一边说明本发明的基板处理装置的具体构成。

如图1和图2所示，在基板处理装置1的前端部形成有用于利用搬运器(carrier)3同时搬入或搬出多张(例如25张)基板2(在此为半导体晶圆)的基板搬入搬出台4，并且在基板搬入搬出台4的后部形成有用于逐张地输送被收容于搬运器3的基板2的矩形箱型形状的基板搬入搬出单元(基板搬入搬出部)5，在基板搬入搬出单元5的后部形成有用于进行基板2的清洗、干燥等各种处理的矩形箱型形状的基板处理单元6。