[发明专利]曝光装置和器件制造方法

权利要求书

1.一种用于将基板曝光的曝光装置，该装置包括：

基板台架，所述基板台架保持基板并能够沿从在X-Y-Z坐标系中定义的X-Y面上的第一位置到所述X-Y面上的第二位置的第一路线移动；

传输臂，所述传输臂保持基板并能够沿从所述X-Y面上的第三位置到第二位置的第二路线移动；

升降部件，所述升降部件位于所述基板台架上并且能够为了在第二位置处向所述传输臂传送基板而沿在X-Y-Z坐标系中定义的Z轴方向上/下移动；以及

控制器，

其中，使a为所述X-Y面中的所述基板台架和所述传输臂之间的预定间隔，所述预定间隔是为了避免由正在进行升降操作的所述升降部件保持的基板和所述传输臂之间的碰撞以及正在进行升降操作的所述升降部件和由所述传输臂保持的基板之间的碰撞而所需的，

在为了向所述传输臂传送基板而开始的所述升降部件的升降操作结束时的时间点处，所述控制器判断已开始向第二位置移动的所述基板台架是否到达从第二位置沿第一路线向前侧偏移预定间隔a的第四位置，并且，如果所述控制器判断所述基板台架没有到达第四位置，那么所述控制器控制所述基板台架的移动、所述升降部件的升降以及所述传输臂的移动，使得所述传输臂在所述升降部件的升降操作结束之前开始向第二位置移动。

2.根据权利要求1的装置，其中，如果所述控制器在所述判断中判断所述基板台架没有到达第四位置，那么所述控制器控制所述基板台架的移动、所述升降部件的升降以及所述传输臂的移动，使得所述传输臂与所述基板台架同时地或比所述基板台架早地到达第二位置。

3.根据权利要求1的装置，其中，如果所述控制器在所述判断中判断所述基板台架到达第四位置，那么所述控制器进一步控制所述基板台架的移动、所述升降部件的升降以及所述传输臂的移动，使得已开始向第二位置移动的所述传输臂和已开始向第二位置移动的所述基板台架之间的X-Y面中的间隔在所述升降部件的升降操作结束时的时间点处变得大于预定间隔a。

4.根据权利要求1的装置，其中，第一位置是当对于由所述基板台架保持的基板进行的曝光处理或测量处理结束时所述基板台架的位置。

5.一种器件制造方法，所述方法包括：

使用在权利要求1～4中的任一项中限定的曝光装置将基板曝光；

将曝光的基板显影；以及

处理显影的基板以制造器件。