[发明专利]曝光装置和器件制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及曝光装置和器件制造方法。

背景技术

对于用于半导体制造过程中的曝光装置，考虑重要的三大性能：作为微构图(micropatterning)的指标的分辨率、用于指示各层的对准性能的覆盖(overlay)精度以及用于指示生产率的产量。为了提高产量，例如，增大单位时间的曝光能量，缩短基板台架跨各行程地(across shots)逐步地移动所花费的时间，缩短交换和传输基板所花费的时间，或者缩短扫描仪的扫描时间。

为了缩短基板交换时的传输时间以提高产量，有效的措施是缩短传输距离。然而，为了获得高的分辨率和高的覆盖精度，必须不可避免地确定曝光装置中的布局以优化投影光学系统、用作光源的照明系统、基板台架和基板位置测量单元的位置。出于这种原因，通过缩短传输距离来缩短传输时间是极难的。

为了缩短传输时间，提出对传输臂的驱动电动机进行升级。但是，驱动电动机的体积随着电动机的升级而增大。这造成诸如电动机不能位于有限的装置空间内、发热量随着驱动能量的增多而增多以及随着传输速度和加速度的升高而使得基板掉落的风险增大之类的问题。

为了缩短传输时间，日本专利公开No.2006-66636公开了使用装载臂和卸载臂几乎同时地执行向基板台架供给未曝光的基板和从基板台架回收曝光的基板的机构。

发明内容

本发明提供一种曝光装置，该曝光装置通过缩短交换基板所花费的时间来提高其生产率。

根据本发明的第一方面，提供一种将基板曝光的曝光装置，该装置包括：基板台架，所述基板台架保持基板并且可沿从在X-Y-Z坐标系中定义的X-Y面上的第一位置到所述X-Y面上的第二位置的第一路线移动；传输臂，所述传输臂保持基板并可沿从所述X-Y面上的第三位置到所述第二位置的第二路线移动；升降部件，所述升降部件位于基板台架上，并且可沿在X-Y-Z坐标系中定义的Z轴方向进行上/下移动，以便在第二位置向传输臂传送基板；以及控制器，其中，使a为所述X-Y面中基板台架和传输臂之间的预定间隔，所述预定间隔对于避免正在进行升降操作的升降部件所保持的基板和传输臂之间的碰撞和正在进行升降操作的升降部件和传输臂所保持的基板之间的碰撞是必要的，控制器在升降部件的升降操作结束的时间点处判断已开始向所述第二位置移动的基板台架是否到达第四位置，其中所述升降部件的升降操作是为了向传输臂传送基板而开始的，所述第四位置从所述第二位置沿第一路线向前侧偏移预定间隔a，并且，如果控制器判断基板台架没有到达第四位置，那么控制器控制基板台架的移动、升降部件的升降以及传输臂的移动，以使传输臂在升降部件的升降操作结束之前开始向所述第二位置移动。

根据本发明的第二方面，提供一种器件制造方法，该方法包括：使用在所述第一方面中限定的曝光装置将基板曝光；将曝光的基板显影；以及处理显影的基板以制造器件。

参照附图阅读示例性实施例的以下描述，本发明的其它特征将变得清晰。

附图说明

图1是用于解释曝光装置的透视图；

图2是用于解释基板传输路线的示意性平面图；

图3是控制器的内部配置的解释性框图；

图4中的4A～4E是当横向观察接收臂从X-Y台架接收基板的过程时的示意性侧视图；

图5中的5A～5C是从上面观察接收臂从X-Y台架接收基板的过程时的示意性平面图；

图6是示出现有技术中的三销(pin)机构、X-Y台架和接收臂的操作的示意曲线图；

图7是用于解释根据本发明的基板的接收方法的示意图；以及

图8中的8A～8D是当横向观察接收臂从X-Y台架接收基板的过程时的另一示意性侧视图。

具体实施方式

〔曝光装置〕