[发明专利]通带滤光片的设计和制造方法无效
| 申请号： | 201010542185.0 | 申请日： | 2010-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN102062888A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 王明利;王卫国 | 申请（专利权）人： | 王明利;王卫国 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 425100 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 滤光 设计 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种通带滤光片的设计和制造方法。
2.根据权利要求１所述的设计方法，其特征在于：相邻谐振腔之间的连接层（耦合层）改为复合耦合层。
3.根据权利要求２所述的复合耦合层，其特征在于：复合耦合层由连接层及其前后一层或几层构成，内含优化的非?λ0光学厚度层。
4.根据权利要求３所述的复合耦合层，其特征在于：除连接层以外的层可以由原有相邻层优化而成，也可以增加新层。
5.根据权利要求２所述的复合耦合层，其特征在于：可以是一组也可以是几组。
6.根据权利要求１所述的制造方法，其特征在于：采用直接法监控，?λ0光学厚度时采用极值法控制；非?λ0光学厚度采用几何厚度法、比例法或极值法控制。
7.根据权利要求３所述的制造方法，其特征在于：在直接法监控时，复合耦合层最后的非?λ0光学厚度层完成时，光量变化正好处于极值点，其后续层继续采用?λ0光学厚度极值法监控。
8.根据权利要求１所述的设计和制造方法，其特征在于：应用于二个及二个以上的F-P谐振腔组成的通带滤光片。
9.根据权利要求１所述的设计和制造方法，其特征在于：应用于DWDM、CWDM等通带滤光片的设计和制造。
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