[发明专利]铝制品及其制备方法无效
| 申请号： | 201010549128.5 | 申请日： | 2010-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN102465301A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;徐华阳 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F17/00 | 分类号： | C23F17/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 铝制品 及其 制备 方法 | ||
1.一种铝制品，包括铝基体及形成于该铝基体上的无色透明真空镀膜层，其特征在于：该铝基体包括经电化学腐蚀形成的多孔表面，该多孔表面分布有多个纳米孔，该真空镀膜层形成于该多孔表面上。
2.如权利要求1所述的铝制品，其特征在于：所述纳米孔的孔径为10～300nm。
3.如权利要求1所述的铝制品，其特征在于：所述纳米孔的孔径为30～100nm。
4.如权利要求1所述的铝制品，其特征在于：该真空镀膜层由金属形成。
5.如权利要求4所述的铝制品，其特征在于：所述金属为钛、铬、铝、锌及锆中的一种。
6.如权利要求4所述的铝制品，其特征在于：所述真空镀膜层的厚度为50～150nm。
7.如权利要求1所述的铝制品，其特征在于：所述真空镀膜层由铬、铝、锌及锆的氧化物中的一种形成，或者由二氧化硅形成。
8.如权利要求1所述的铝制品，其特征在于：所述真空镀膜层的厚度为50nm至2μm。
9.一种铝制品的制备方法，包括如下步骤：
提供铝基体；
电化学腐蚀处理，以使该铝基体形成多孔表面，该多孔表面分布有多个纳米孔；
真空镀膜处理，以于该多孔表面形成一层无色透明的真空镀膜层。
10.如权利要求9所述的铝制品的制备方法，其特征在于：所述真空镀膜为蒸镀、溅镀及离子镀中的一种。
11.如权利要求9所述的铝制品的制备方法，其特征在于：所述阳极电化学腐蚀是以该铝基体作为阳极，钛板作阴极，电解液为含质量浓度为0.5％的氢氟酸和0.5mol/L硫酸的水溶液，电解液温度为室温，pH值小于2，电解电压为10～25V，电解时间为30～100min。
12.如权利要求9所述的铝制品的制备方法，其特征在于：该铝制品的制备方法还包括在所述阳极氧化处理前，对铝基体进行预处理的步骤，该预处理包括对铝基体除油及化学抛光。
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