[发明专利]镀膜装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种镀膜装置，尤其涉及一种具有镀膜伞架的镀膜装置。

背景技术

当前，许多工业产品表面都镀有功能薄膜，以改善产品表面的各种性能。如在光学镜片的表面镀上一层抗反射膜，以降低镜片表面的反射率，降低入射光通过镜片的能量损耗。又如在某些滤光元件表面镀上一层滤光膜，可滤掉某一预定波段的光，制成各种各样的滤光片。一般地，镀膜方法主要包括离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。Ichiki，M.等人在2003年5月发表于2003 Symposium on Design，Test，Integration andPackaging of MEMS/MOEMS的论文Thin film formation-a fabrication onnon-planar surface by spray coating method中介绍了通过喷涂在非平面形成薄膜的方法。

蒸镀是一种物理气相沉积技术，即以物理的方式进行薄膜沉积。具体地，其通过离子束或电子束对蒸镀材料进行加热，使蒸镀材料变成气态或离子态，而沉积在待镀工件表面以形成一蒸镀材料膜层。

在对工件的某一面进行镀膜时，通常是将待镀工件固定于镀膜伞架上，蒸镀靶材设置于镀膜伞架下方，通过蒸发而将靶材冲至镀膜伞架，从而对待镀工件的朝向镀膜伞架下方的一面进行镀膜。然而，蒸镀材料中可能含有杂质，当蒸镀时，杂质也可能会被镀至工件表面，从而产生白、麻点等缺陷。另外，只需要在待镀工件的朝向镀膜伞架下方的一面进行镀膜，但是在蒸镀制程中，变成气态或离子态的蒸镀材料在真空腔体内是以无序的方式运动，其容易从固定式伞架的周围流动至伞架上方，附着在待镀工件的周缘及另一面从而污染待镀工件。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可防止待镀工件在镀膜制程中被污染的镀膜装置。

本发明提供一种镀膜装置，其包括一个镀膜伞架，所述镀膜伞架具有多个容置通孔，所述多个容置通孔用于容置待镀工件，所述镀膜装置还包括一个镀膜伞架遮罩及一个过滤板。所述镀膜伞架遮罩用于自该镀膜伞架顶部罩住该镀膜伞架。所述过滤板安装于该镀膜伞架底部，所述过滤板上形成有多个过滤孔，所述过滤孔用于透过气态或离子态的蒸镀材料，并阻挡杂质。

相较于现有技术，所述镀膜装置包括一镀膜伞架遮罩及一过滤板，镀膜伞架遮罩用于从顶部罩住所述镀膜伞架，从而防止蒸镀材料从侧面污染镀膜伞架及待镀工件，过滤板安装于镀膜伞架底部并开有可透过蒸镀材料及阻挡杂质的过滤孔，从而防止杂质污染镀膜伞架及待镀工件。

附图说明

图1是本发明实施方式提供的镀膜装置的立体示意图。

图2是本发明实施方式提供的镀膜装置的立体分解示意图。

主要元件符号说明

镀膜装置          100

镀膜伞架          200

容置通孔          201

镀膜伞架遮罩      300

第一罩体          10

伞状支架          12

支撑轴            14

遮挡片            16

连接轴            18

螺孔              122

第二罩体          20

支撑架            22

螺栓              24

过滤板            400

过滤孔            401

螺孔            402

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。

请参阅图1及图2，本发明实施方式提供一种镀膜装置100，其包括一个镀膜伞架200、一个镀膜伞架遮罩300及一个过滤板400。

所述镀膜伞架200具有多个容置通孔201，用于容置待镀工件(图未示)。所述多个容置通孔201大小相同，且排列整齐。所述镀膜伞架200的形状为伞状。镀膜时，蒸镀源设置于镀膜伞架200的下方，且蒸镀源从镀膜伞架200的下方向上进行镀膜。

所述镀膜伞架遮罩300用于自镀膜伞架200的顶端罩住所述镀膜伞架200，其包括一个第一罩体10及一个第二罩体20。所述第一罩体10直接罩在镀膜伞架200上，所述第二罩体20用于罩住第一罩体10。